特許
J-GLOBAL ID:201403079177766209

洗剤及び清浄剤へのスケール防止添加剤として使用するカルボン酸基、スルホン酸基及びポリアルキレンオキシド基を含有するコポリマー

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 平木 祐輔 ,  藤田 節 ,  新井 栄一 ,  田中 夏夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-540318
公開番号(公開出願番号):特表2014-503007
出願日: 2011年11月22日
公開日(公表日): 2014年02月06日
要約:
本発明は、共重合された形態で、a1)少なくとも1種のモノエチレン性不飽和C3〜C8-カルボン酸、その無水物又は水溶性塩を30〜90重量%、a2)スルホ基を含有する少なくとも1種のモノマーを3〜60重量%、a3)少なくとも1種の式I:H2C=C(R1)COO-[R2-O]o-R3(I)の非イオン性モノマーを3〜60重量%(式中、R1は水素又はメチルであり、R2は同一である又は異なっている直鎖又は分岐C2〜C6-アルキレン基であり、ブロック又はランダムに配列することができ、R3は水素又は直鎖もしくは分岐C1〜C4アルキル基であり、oは3から50の自然数である)、a4)これらa1)、a2)及びa3)と重合可能な1種又は複数のさらなるエチレン性不飽和モノマーを0〜30重量%含有し、a1)、a2)、a3)及びa4)の合計は100重量%である、コポリマーに関する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
共重合された形態で、 a1) 少なくとも1種のモノエチレン性不飽和C3〜C8-カルボン酸、又はその無水物もしくは水溶性塩を30〜90重量%、 a2) スルホ基を含む少なくとも1種のモノマーを3〜60重量%、 a3) 少なくとも1種の式Iの非イオン性モノマー H2C=C(R1)COO-[R2-O]o-R3 (I) (式中、R1は水素又はメチルであり、R2は同一である又は異なっている直鎖又は分岐C2〜C6-アルキレン基であり、ブロック又はランダムに配列していてもよく、R3は水素又は直鎖もしくは分岐C1〜C4-アルキル基であり、oは3から50の自然数である) を3〜60重量%、 a4) a1)、a2)及びa3)と重合可能な1種又は複数のさらなるエチレン性不飽和モノマーを0〜30重量% 含み、 a1)、a2)、a3)及びa4)の合計が100重量%である、 コポリマー。
IPC (3件):
C08F 220/04 ,  C11D 3/37 ,  C11D 1/66
FI (3件):
C08F220/04 ,  C11D3/37 ,  C11D1/66
Fターム (37件):
4H003BA12 ,  4H003DA05 ,  4H003DA09 ,  4H003DA17 ,  4H003DA19 ,  4H003EA09 ,  4H003EA15 ,  4H003EA16 ,  4H003EB08 ,  4H003EB12 ,  4H003EB16 ,  4H003EB24 ,  4H003EB28 ,  4H003EB30 ,  4H003EB34 ,  4H003EC02 ,  4H003EC03 ,  4H003ED02 ,  4H003EE05 ,  4H003FA07 ,  4H003FA21 ,  4J100AJ02R ,  4J100AL08Q ,  4J100AM21P ,  4J100BA05P ,  4J100BA08Q ,  4J100BA56P ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA28 ,  4J100FA03 ,  4J100FA20 ,  4J100FA21 ,  4J100GC35 ,  4J100JA15 ,  4J100JA21
引用特許:
審査官引用 (11件)
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