特許
J-GLOBAL ID:201403081724139863
熱転写システムおよび印画物の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
勝沼 宏仁
, 中村 行孝
, 横田 修孝
, 伊藤 武泰
, 小島 一真
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-213206
公開番号(公開出願番号):特開2014-065246
出願日: 2012年09月26日
公開日(公表日): 2014年04月17日
要約:
【課題】さばき性が良好な印画物を製造できる熱転写システムの提供、およびさばき性が良好な印画物の製造方法の提供。【解決手段】本発明による熱転写システムは、基材と、基材の一方の面に少なくとも保護層とを有してなる熱転写保護シートと、基材と、基材の一方の面に少なくとも受容層と、基材の他方の面に少なくとも裏面層とを有してなる熱転写受像シートと、該保護層が該受容層上に熱転写された印画物を搬送するローラーを有してなるプリンタとを備えてなり、該保護層および該裏面層の帯電列が、該ローラーの表面部材の帯電列を基準としてプラス側である。本発明による熱転写システムによれば、さばき性が良好な印画物を製造できる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基材シートと、前記基材シートの一方の面に少なくとも保護層とを有してなる熱転写保護シートと、
基材と、前記基材の一方の面に少なくとも受容層と、前記基材の他方の面に少なくとも裏面層とを有してなる熱転写受像シートと、
前記保護層が前記受容層上に熱転写された印画物を搬送するローラーを有してなるプリンタと
を備えてなり、
前記保護層および前記裏面層の帯電列が、前記ローラーの表面部材の帯電列を基準としてプラス側である、熱転写システム。
IPC (4件):
B41M 5/382
, B41M 5/50
, B41M 5/52
, B41J 2/32
FI (5件):
B41M5/26 101
, B41M5/26 A
, B41M5/26 101H
, B41M5/26 H
, B41J3/20 109J
Fターム (19件):
2C065AB10
, 2C065CJ02
, 2C065CJ08
, 2H111AA26
, 2H111AA27
, 2H111AA42
, 2H111AA52
, 2H111BA02
, 2H111BA03
, 2H111BA07
, 2H111BA14
, 2H111BA53
, 2H111CA03
, 2H111CA04
, 2H111CA05
, 2H111CA23
, 2H111CA25
, 2H111CA30
, 2H111CA33
引用特許:
前のページに戻る