特許
J-GLOBAL ID：201403082071478337
ガスバリア性フィルム
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-148610
公開番号（公開出願番号）：特開2014-043094
出願日： 2013年07月17日
公開日（公表日）： 2014年03月13日
要約：
【課題】高温環境や屈曲に対してもガスバリア性が悪化せず、下地との密着性が良い、高透明かつ高度なガスバリア性を有するガスバリア性フィルムを提供する。【解決手段】高分子フィルム基材の少なくとも片側に、亜鉛化合物とケイ素化合物とを含有するガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、該ガスバリア層において、X線光電子分光法(XPS)により亜鉛(Zn)原子およびケイ素(Si)原子の含有比率(Zn/Si)を深さ方向に15nm間隔で求めた値を、a0,a1,a2,a3・・・an(a0はガスバリア層の最表面側の測定点での値、anはガスバリア層の最も高分子フィルム基材との界面に近い側の測定点での値)としたとき、すべての点が、下記式を満たすことを特徴とするガスバリア性フィルム。 0.8≧ai-a(i+1)>0 (式中iは、0以上n-1以下の整数を表す)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
高分子フィルム基材の少なくとも片側に、亜鉛化合物とケイ素化合物とを含有するガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、
該ガスバリア層において、X線光電子分光法(XPS)により亜鉛(Zn)原子およびケイ素(Si)原子の含有比率(Zn/Si)を深さ方向に15nm間隔で求めた値を、a0,a1,a2,a3・・・an(a0はガスバリア層の最表面側の測定点での値、anはガスバリア層の最も高分子フィルム基材との界面に近い側の測定点での値)としたとき、すべての点が、下記式を満たすことを特徴とするガスバリア性フィルム。
0.8≧ai-a(i+1)>0
(式中iは、0以上n-1以下の整数を表す)
IPC (3件)：
B32B 9/00
, C23C 14/08
, C23C 14/06
B32B9/00 A
, C23C14/08 K
, C23C14/06 L
4F100AA02B
, 4F100AA11B
, 4F100AA12B
, 4F100AA16B
, 4F100AA19B
, 4F100AA20
, 4F100AA20B
, 4F100AA25
, 4F100AA25B
, 4F100AA33B
, 4F100AK01A
, 4F100AK42
, 4F100AR00B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA07
, 4F100BA44B
, 4F100CC00C
, 4F100EH66
, 4F100EJ58
, 4F100GB15
, 4F100GB41
, 4F100JD02
, 4F100JD02B
, 4F100JK17
, 4F100YY00B
, 4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BA50
, 4K029BA64
, 4K029BC01
, 4K029CA06
, 4K029DC05
, 4K029DC09
, 4K029DC16
, 4K029DC35
, 4K029JA10
, 4K029KA03
