特許

J-GLOBAL ID：201403083581998382

塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 坂本 宏 ,  平岡 崇志 ,  市川 幸司
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-103781
公開番号（公開出願番号）：特開2013-256496
出願日： 2013年05月16日
公開日（公表日）： 2013年12月26日
要約：

【課題】従来のレジスト組成物では、レジストパターン製造時のラインエッジラフネス(LER)が必ずしも十分ではない場合があった。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。L1は、炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよく、該飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。環W1は、環状炭酸エステル構造の環を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (8件)：

C07C 309/17 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  C07C 381/12 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027 ,  C07D 317/36

FI (8件)：

C07C309/17 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R ,  C07D317/36

Fターム (32件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CC17 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-212732   出願人：住友化学株式会社
• 酸発生剤用の塩及びレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-252605   出願人：住友化学株式会社