特許

J-GLOBAL ID：200903039118758918

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者： 吉田 勲 ,  原田 由香子 ,  宮川 貴行
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-212732
公開番号（公開出願番号）：特開2008-069146
出願日： 2007年08月17日
公開日（公表日）： 2008年03月27日
要約：

【課題】高い解像度及び良好な露光マージンを示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。(式(I)中、Q1およびQ2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、Xは炭素数1〜12の2価の基であって直鎖または分岐の鎖状炭化水素基を表し、Yは炭素数1〜30の置換されていてもよい炭化水素基を表す。A+は有機対イオンを表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で示されることを特徴とする塩。

IPC (6件)：

C07C 309/17 ,  C07C 381/12 ,  C07D 307/00 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 303/22

FI (6件)：

C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07D307/00 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07C303/22

Fターム (16件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4C037AA02 ,  4H006AA01 ,  4H006AB81 ,  4H006BJ30 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-039501   出願人：住友化学工業株式会社

審査官引用 (2件)

• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び(メタ)アクリル酸誘導体とその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-050664   出願人：住友化学株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤の中間体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-235108   出願人：住友化学株式会社, 東ソ-・エフテック株式会社