膜加工方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：渡辺望稔 , 三和晴子 , 竹本洋一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-176114
公開番号（公開出願番号）：特開2014-205147
出願日： 2011年08月11日
公開日（公表日）： 2014年10月30日
要約：

【課題】低エネルギーで行われ、かつ、加工精度や加工品質にも優れた、膜加工方法を提供する。【解決手段】基板の一方の面上に形成された膜の除去予定部位をレーザ光の照射により除去して、除去部を形成する膜加工方法であって、上記レーザ光の照射は、パルスレーザ光源からレーザ光を2ショット以上照射するものであり、1ショット目の上記レーザ光が、上記除去予定部位における膜平面に垂直な方向の50%以上100%未満を除去するエネルギー密度を有し、2ショット目以降の各ショットの上記レーザ光が、上記1ショット目の上記レーザ光が有するエネルギー密度の50〜100%のエネルギー密度を有し、上記レーザ光のショット間隔が、1秒以上である、膜加工方法。【選択図】図3A

請求項（抜粋）：

基板の一方の面上に形成された膜の除去予定部位をレーザ光の照射により除去して、除去部を形成する膜加工方法であって、前記レーザ光の照射は、パルスレーザ光源からレーザ光を2ショット以上照射するものであり、 1ショット目の前記レーザ光が、前記除去予定部位における膜平面に垂直な方向の50%以上100%未満を除去するエネルギー密度を有し、 2ショット目以降の各ショットの前記レーザ光が、前記1ショット目の前記レーザ光が有するエネルギー密度の50〜100%のエネルギー密度を有し、前記レーザ光のショット間隔が、1秒以上である、膜加工方法。

IPC (3件)：

B23K 26/36 , B23K 26/00 , B23K 26/18

FI (3件)：

B23K26/36 , B23K26/00 N , B23K26/18

Fターム (7件)：

4E068AH00 , 4E068CA02 , 4E068CA03 , 4E068CA16 , 4E068CF00 , 4E068DA09 , 4E068DB01

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