特許
J-GLOBAL ID:201403086887261692
68GA錯体の調製方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
永井 道雄
, 飯野 陽一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-524396
公開番号(公開出願番号):特表2014-524423
出願日: 2012年08月10日
公開日(公表日): 2014年09月22日
要約:
68Gaを含有する錯体の調製方法であって、その錯体形成反応では、金属陽イオンを封鎖することが可能な化合物の存在下、緩衝剤ギ酸/ギ酸塩を用いる。
請求項(抜粋):
68Ga錯体の調製方法であって、キレート剤で官能基化された分子と68Ga間の錯体化反応を、場合により金属陽イオンを封鎖することが可能な化合物の存在下で、緩衝剤ギ酸/ギ酸塩水溶液中において行い、ここで、前記金属陽イオンを封鎖することが可能な化合物を使用する場合、該金属陽イオンを封鎖することが可能な化合物を錯体化反応の開始時に加える、方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (11件):
4C085HH03
, 4C085KA11
, 4C085KA29
, 4C085KA36
, 4C085KB15
, 4C085KB45
, 4C085KB56
, 4C085KB57
, 4C085KB82
, 4C085LL07
, 4C085LL20
引用特許:
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