特許
J-GLOBAL ID:201403091413572895
硫酸還元菌の選択的制菌方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
近藤 利英子
, 菅野 重慶
, 山田 龍也
, 岡田 薫
, 阿部 寛志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-180093
公開番号(公開出願番号):特開2014-037364
出願日: 2012年08月15日
公開日(公表日): 2014年02月27日
要約:
【課題】他の菌の増殖を抑制することなく、硫酸還元菌の増殖を選択的に抑制することが可能な硫酸還元菌の選択的制菌方法を提供する。【解決手段】硫酸還元菌の存在する環境に、キレート化Alを併存させることにより、前記硫酸還元菌の増殖を選択的に抑制することを特徴とする硫酸還元菌の選択的制菌方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
硫酸還元菌の存在する環境に、キレート化Alを併存させることにより、前記硫酸還元菌の増殖を選択的に抑制することを特徴とする硫酸還元菌の選択的制菌方法。
IPC (3件):
A01N 59/06
, C02F 11/00
, A01P 3/00
FI (3件):
A01N59/06 Z
, C02F11/00 Z
, A01P3/00
Fターム (16件):
4D059AA03
, 4D059BK03
, 4D059BK13
, 4D059DA15
, 4D059DA16
, 4D059DA17
, 4D059DA19
, 4D059DB08
, 4D059DB40
, 4D059EB05
, 4D059EB06
, 4H011AA02
, 4H011BB18
, 4H011BC06
, 4H011DA13
, 4H011DD01
引用特許:
引用文献:
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