特許
J-GLOBAL ID:201403092052296266
計測装置及びプログラム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 高柴 忠夫
, 増井 裕士
, 鈴木 史朗
, 橋本 宏之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-127902
公開番号(公開出願番号):特開2013-253797
出願日: 2012年06月05日
公開日(公表日): 2013年12月19日
要約:
【課題】誤ったステレオ計測が実施されるのを防止する。【解決手段】視差のある二つの光路を形成する2光路形成光学系120と、2光路形成光学系120が形成した二つの光路を時分割で切り替える光路切替部130と、二つの光路のうち第1の光路を通る第1の光が進む方向と垂直な面において該第1の光を一部遮断する位置と、前記二つの光路のうち第2の光路を通る第2の光が進む方向と垂直な面において該第2の光を一部遮断する位置とが異なるように、第1の光と第2の光それぞれを一部遮断する光遮断部180と、光遮断部180が一部遮断した光に基づいてマスク像を形成する結像光学系160と、結像光学系160が形成したマスク像を撮像する撮像部190と、撮像部190がマスク像を撮像することにより得られたマスク画像に基づいて、光路の切替状態を検知する検知部と、を備える。【選択図】図3
請求項(抜粋):
視差のある二つの光路を形成する2光路形成光学系と、
前記2光路形成光学系が形成した二つの光路を時分割で切り替える光路切替部と、
前記二つの光路のうち第1の光路を通る第1の光が進む方向と垂直な面において該第1の光を一部遮断する位置と、前記二つの光路のうち第2の光路を通る第2の光が進む方向と垂直な面において該第2の光を一部遮断する位置とが異なるように、前記第1の光と前記第2の光それぞれを一部遮断する光遮断部と、
前記光遮断部が一部遮断した光に基づいて、マスク像を形成する結像光学系と、
前記結像光学系が形成したマスク像を撮像する撮像部と、
前記撮像部がマスク像を撮像することにより得られたマスク画像に基づいて、光路の切替状態を検知する検知部と、
を備える計測装置。
IPC (8件):
G01C 3/06
, G02B 23/24
, G03B 15/00
, G03B 19/07
, G03B 17/02
, G03B 17/00
, G03B 17/12
, G03B 35/08
FI (8件):
G01C3/06 110V
, G02B23/24 C
, G03B15/00 T
, G03B19/07
, G03B17/02
, G03B17/00 Q
, G03B17/12 Z
, G03B35/08
Fターム (27件):
2F112AC03
, 2F112AC06
, 2F112BA15
, 2F112CA06
, 2F112DA13
, 2F112DA28
, 2F112DA32
, 2F112DA40
, 2F112GA01
, 2H020MC94
, 2H040AA01
, 2H040BA15
, 2H040CA09
, 2H040CA11
, 2H040CA12
, 2H040CA23
, 2H040GA02
, 2H040GA06
, 2H040GA10
, 2H040GA11
, 2H054BB05
, 2H059AA08
, 2H059AA12
, 2H100BB06
, 2H100CC01
, 2H101FF06
, 2H101FF08
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
立体視内視鏡システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-159945
出願人:オリンパス株式会社
審査官引用 (1件)
-
立体視内視鏡システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-159945
出願人:オリンパス株式会社
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