特許

J-GLOBAL ID：201403094921776047

ガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法

発明者： 鈴木 晃子 ,  佐藤 明伸 ,  ブーレル エマニュエル ,  松尾 二郎 ,  瀬木 利夫
出願人/特許権者： 日本航空電子工業株式会社
代理人 (3件)： 中尾 直樹 ,  中村 幸雄 ,  義村 宗洋
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-020900
公開番号（公開出願番号）：特開2012-104859
特許番号：特許第5499063号
出願日： 2012年02月02日
公開日（公表日）： 2012年05月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法であって、 上記固体表面の法線と上記ガスクラスターイオンビームとがなす角度を照射角度とし、 固体と当該固体に衝突したクラスターとが相互作用する距離が飛躍的な増大に転じる照射角度を臨界角として、 予め上記固体表面の形状データを取得する過程と、 上記臨界角以上の上記照射角度で上記固体表面に対して、上記形状データに含まれる800nm以上1.1μm以下の範囲の周期をもつ表面の凹凸のうねりが存在する方向と照射方向とを一致させて上記ガスクラスターイオンビームを照射する照射過程と を有する ガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法。

IPC (2件)：

H01L 21/302 ( 200 6.01) ,  C23F 4/00 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/302 201 B ,  C23F 4/00 A