研究者
J-GLOBAL ID:200901098950845463
更新日: 2024年08月17日
松尾 二郎
マツオ ジロウ | Matsuo Jiro
所属機関・部署:
職名:
准教授,准教授
研究キーワード (6件):
先端分析技術
, 表面衝突
, イオンビーム
, material analysis
, surface collision
, ion beam
競争的資金等の研究課題 (19件):
- 2017 - 2021 大気圧SIMS法の開発とその固液界面評価への応用
- 2014 - 2017 ステロイドホルモンの質量分析イメージングによる組織細胞上の直接可視化法の開発
- 2011 - 2014 巨大クラスターイオンによる機能性有機材料評価技術の研究
- 2010 - 2011 コンパクトフェムト秒X線源の探査研究
- 2004 - 2006 水溶液ジェットヘの高速イオン衝突により生成される二次電子・二次イオンの精密測定
- 2002 - 2003 クラスターイオン分析法
- 2000 - 2001 高機能酸化物薄膜形成方法の研究
- 1998 - 2000 高エネルギー多原子イオンビーム照射による超硬度被膜形成の研究
- 1997 - 1999 クラスターイオンビームと固体との非線形相互作用の研究
- 1997 - 1997 ガスクラスターイオンビームと固体表面との反応素過程に関する研究
- 1996 - 1997 超高密度イオンビーム照射による表面改質の研究
- 1996 - 1996 ガスクラスターイオンビームと固体表面との反応素過程に関する研究
- 1995 - 1995 ガスクラスターイオンビームと固体表面との反応素過程に関する研究
- 1992 - 1994 次世代高集積回路(LSI)用クラスターイオン注入装置の試作研究
- 1992 - 1994 全エピタキシャル金属/絶縁体積層構造形成とデバイスの研究
- クラスターイオンビームプロセスの研究
- 高速粒子の表面衝突ダイナミクスの研究
- Study on Cluster Ion Beam Processing
- Collision Dynamics of Hyper-thormal Particles on Solid Surfaces
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論文 (269件):
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松尾 二郎. SIMS 測定のためのプラス α の研究技術. 応用物理. 2023. 92. 4. 235-239
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Toshio Seki, Hiroki Yamamoto, Kunihiko Koike, Takaaki Aoki, Jiro Matsuo. High aspect (>20) etching with reactive gas cluster injection. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2022. 61. SI. ARTN SI1007
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Masaki Hada, Satoshi Ohmura, Tadahiko Ishikawa, Masaki Saigo, Naoya Keio, Wataru Yajima, Tatsuya Suzuki, Daisuke Urushihara, Kou Takubo, Yusuke Masaki, et al. Photoinduced oxygen transport in cobalt double-perovskite crystal EuBaCo2O5.39. APPLIED MATERIALS TODAY. 2021. 24. ARTN 101167
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Masaki Hada, Kotaro Makino, Hirotaka Inoue, Taisuke Hasegawa, Hideki Masuda, Hiroo Suzuki, Keiichi Shirasu, Tomohiro Nakagawa, Toshio Seki, Jiro Matsuo, et al. Phonon transport probed at carbon nanotube yarn/sheet boundaries by ultrafast structural dynamics. CARBON. 2020. 170. 165-173
-
Toshio Seki, Tomoya Nonomura, Takaaki Aoki, Jiro Matsuo. MeV-SIMS measurement of lithium-containing electrolyte. NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS. 2020. 479. 229-232
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MISC (145件):
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K. Tsutsui, B. Z. Li, I. Mizushima, H. Wakabayashi, K. Suguro, J. Matsuo, Y. L. Jinag, T. Skotnicki, K. Ohuchi, S. Shibata, et al. Preface. 15th International Workshop on Junction Technology, IWJT 2015. 2016
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Kusakari M., Fujii M., Seki T., Aoki T., Matsuo J. Development of ambient SIMS using MeV-energy ion probe. Annual report of Quantum Science and Engineering Center. 2016. 18. 21-25
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Suzuki K., Kusakari M., Seki T., Aoki T., Matsuo J. Development of Low-Vacuum SIMS Instruments with Large Cluster Ion Beam. Annual report of Quantum Science and Engineering Center. 2016. 18. 26-29
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Wakamoto K., Seki T., Aoki T., Matsuo J. 3D molecular imaging of organic multilayer film by Ar gas cluster ion beam SIMS. Annual report of Quantum Science and Engineering Center. 2014. 16. 27-29
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Fujii M., Kusakari M., Seki T., Aoki T., Matsuo J. Lipid Compounds Analysis with MeV-SIMS Apparatus. Annual report of Quantum Science and Engineering Center. 2014. 16. 22-24
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書籍 (34件):
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Ultra-Hard DLC formation at low temperture by gas cluster in beam assisted deposition
Mass and Change transprt in inorganic matcrials,/,957-964 2000
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Clustor size Measurment of Large Ar Cluster Ins with Time of Flight
IEEE, Proc. of the 12th International Canferencecn Im Implantation Technology,/,1234-1237 1999
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AIP, Application of Cluster In Implantation Micro electronic Devices
AIP, Application of Accelaratars in Research and Industry,/,379-382 1999
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Borm Diffusiun in Ultra Low Enery Decaboranc Im Implantation
IEEE, Proc, of the 12th International Canferencecn Im Implantation Technology,/,1258-1261 1999
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Monte Curlo Simolation of Surfaces Smoothing Effect by Closter Ions
IEEE, Proc. of the 12th Infornatinal Canferecnce on Im Implantation Technology,/,1230-1233 1999
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Works (1件):
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クラスターイオンビームプロセスの研究
2000 -
学歴 (2件):
- - 1984 京都大学 電気通信学部 電子工学
- - 1984 京都大学
学位 (1件):
所属学会 (3件):
米国真空学会(American Vaccum Society)
, 日本物理学会
, 応用物理学会
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