研究者
J-GLOBAL ID:200901098950845463   更新日: 2024年08月17日

松尾 二郎

マツオ ジロウ | Matsuo Jiro
所属機関・部署:
職名: 准教授,准教授
研究分野 (1件): 電子デバイス、電子機器
研究キーワード (6件): 先端分析技術 ,  表面衝突 ,  イオンビーム ,  material analysis ,  surface collision ,  ion beam
競争的資金等の研究課題 (19件):
  • 2017 - 2021 大気圧SIMS法の開発とその固液界面評価への応用
  • 2014 - 2017 ステロイドホルモンの質量分析イメージングによる組織細胞上の直接可視化法の開発
  • 2011 - 2014 巨大クラスターイオンによる機能性有機材料評価技術の研究
  • 2010 - 2011 コンパクトフェムト秒X線源の探査研究
  • 2004 - 2006 水溶液ジェットヘの高速イオン衝突により生成される二次電子・二次イオンの精密測定
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論文 (269件):
  • 松尾 二郎. SIMS 測定のためのプラス α の研究技術. 応用物理. 2023. 92. 4. 235-239
  • Toshio Seki, Hiroki Yamamoto, Kunihiko Koike, Takaaki Aoki, Jiro Matsuo. High aspect (>20) etching with reactive gas cluster injection. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2022. 61. SI. ARTN SI1007
  • Masaki Hada, Satoshi Ohmura, Tadahiko Ishikawa, Masaki Saigo, Naoya Keio, Wataru Yajima, Tatsuya Suzuki, Daisuke Urushihara, Kou Takubo, Yusuke Masaki, et al. Photoinduced oxygen transport in cobalt double-perovskite crystal EuBaCo2O5.39. APPLIED MATERIALS TODAY. 2021. 24. ARTN 101167
  • Masaki Hada, Kotaro Makino, Hirotaka Inoue, Taisuke Hasegawa, Hideki Masuda, Hiroo Suzuki, Keiichi Shirasu, Tomohiro Nakagawa, Toshio Seki, Jiro Matsuo, et al. Phonon transport probed at carbon nanotube yarn/sheet boundaries by ultrafast structural dynamics. CARBON. 2020. 170. 165-173
  • Toshio Seki, Tomoya Nonomura, Takaaki Aoki, Jiro Matsuo. MeV-SIMS measurement of lithium-containing electrolyte. NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS. 2020. 479. 229-232
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MISC (145件):
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書籍 (34件):
  • Ultra-Hard DLC formation at low temperture by gas cluster in beam assisted deposition
    Mass and Change transprt in inorganic matcrials,/,957-964 2000
  • Clustor size Measurment of Large Ar Cluster Ins with Time of Flight
    IEEE, Proc. of the 12th International Canferencecn Im Implantation Technology,/,1234-1237 1999
  • AIP, Application of Cluster In Implantation Micro electronic Devices
    AIP, Application of Accelaratars in Research and Industry,/,379-382 1999
  • Borm Diffusiun in Ultra Low Enery Decaboranc Im Implantation
    IEEE, Proc, of the 12th International Canferencecn Im Implantation Technology,/,1258-1261 1999
  • Monte Curlo Simolation of Surfaces Smoothing Effect by Closter Ions
    IEEE, Proc. of the 12th Infornatinal Canferecnce on Im Implantation Technology,/,1230-1233 1999
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Works (1件):
  • クラスターイオンビームプロセスの研究
    2000 -
学歴 (2件):
  • - 1984 京都大学 電気通信学部 電子工学
  • - 1984 京都大学
学位 (1件):
  • 工学博士 (京都大学)
所属学会 (3件):
米国真空学会(American Vaccum Society) ,  日本物理学会 ,  応用物理学会
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