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J-GLOBAL ID:201502202169420248   整理番号:15A1071974

低エネルギーイオン散乱:太陽光発電応用のためのCu(In,Ga)Se2の表面作製と分析

Low energy ion scattering: surface preparation and analysis of Cu(In,Ga)Se2 for photovoltaic applications
著者 (6件):
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巻: 23  号: 10  ページ: 1219-1227  発行年: 2015年10月 
JST資料番号: W0463A  ISSN: 1062-7995  CODEN: PPHOED  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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厳密に最外殻表面原子層に鋭敏な低エネルギーイオン散乱により,Cu(In,Ga)Se2(CIGS)単結晶エピタキシャル膜を分析し,作製条件の関数として表面化学を調べた。試料を,カチオン(A),または,アニオン(B)で終端されたGaAs基板上にハイブリッドスパッタリングと蒸発法により作製し,試料は滑らかな表面を示した。試料を励起原子酸素,または,水素ビームに曝すか,または,500eVのAr+でスパッタした。原子O*処理の結果,すべての膜構成成分を含む清浄な酸化表面が得られた。原子H*は,表面Gaの割合を強く増強した。これは,おそらく,最外殻表面原子層内に事前に存在していたGaの固有酸化物によると考えられる。スパッタリングは,エネルギー分散分光によってわかったように,膜のバルク組成に近い清浄な表面を生み出した。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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太陽光発電  ,  試料技術 

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