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J-GLOBAL ID：201502202939012607   整理番号：15A0791670

ポリ(ジメチルシロキサン-b-メチルメタクリル酸エステル):サブ10nmのパターン形成のための有望な候補

Poly(dimethylsiloxane-b-methyl methacrylate): A Promising Candidate for Sub-10 nm Patterning

著者 (12件)： LUO Yingdong (Univ. California, California, USA) ,  MONTARNAL Damien (Univ. California, California, USA) ,  KIM Sangwon (Univ. California, California, USA) ,  KIM Sangwon (Inha Univ., Incheon, KOR) ,  SHI Weichao (Univ. California, California, USA) ,  BARTEAU Katherine P. (Univ. California, California, USA) ,  PESTER Christian W. (Univ. California, California, USA) ,  HUSTAD Phillip D. (Dow Electronic Materials, Massachusetts, USA) ,  CHRISTIANSON Matthew D. (Dow Chemical Co., Michigan, USA) ,  FREDRICKSON Glenn H. (Univ. California, California, USA) ,  KRAMER Edward J. (Univ. California, California, USA) ,  HAWKER Craig J. (Univ. California, California, USA)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 48  号： 11  ページ： 3422-3430  発行年： 2015年06月09日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銅触媒アジド-アルキン「クリック」環状付加を使用して,自己組織化ドメインを有するポリ(ジメチルシロキサン-ブロック-メチルメタクリル酸)(PDMS-b-PMMA)やポリ(ジメチルシロキサン-ブロック-スチレン)(PDMS-b-PS)ジブロック共重合体のライブラリーを取得した。小角X線散乱実験から測定したPDMS-b-PMMAのFlory-Huggins相互作用パラメータは,PDMS-b-PSジブロック共重合体よりも10nm以下でのリソグラフィーに適するようである。薄膜自己組織化では,12.1nmというこれまでで最小のドメイン周期のものを得た。

シソーラス用語： 環状付加 ,  *ブロック共重合体 ,  ブロック共重合 ,  小角X線散乱 ,  *超薄膜 ,  *ナノ構造 ,  ポリジメチルシロキサン ,  ポリメタクリル酸 ,  Flory-Huggins理論 ,  熱力学的性質 ,  銅触媒 ,  リソグラフィー ,  顕微鏡観察 ,  原子間力顕微鏡 ,  *ナノシート
準シソーラス用語： *ナノ薄膜 ,  原子間力顕微鏡観察

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (4件)： チル ,  メタクリル酸エステル ,  サブ ,  パターン形成