文献

J-GLOBAL ID：201502203036735110   整理番号：15A1241948

マスク三次元効果とレジスト効果をシミュレートするための改善された仮想収差モデル

An Improved Virtual Aberration Model to Simulate MASK 3D and Resist Effects

著者 (6件)： KANAYA Reiji (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  FUJII Koichi (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  IMAI Motokatsu (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  MATSUYAMA Tomoyuki (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  TSUZUKI Takao (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  LIN Qun Ying (Inst. Microelectronics, Singapore, SGP)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9426  ページ： 94261O.1-94261O.9  発行年： 2015年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最小加工寸法の低下に伴い,より精細なパターン加工が求められるに従って,光リソグラフィー技術は様々な困難な問題に直面してきた。これらの問題は,主として,プロジェクションレンズの収差,マスク三次元(Mask 3D)形状効果,および,レジストの厚さ効果から生じる。プロジェクションレンズの収差については,今までに多くの研究がなされ,ほぼ解決策が得られている。しかしながら,Mask 3D形状効果とレジストの厚膜効果については,これらの効果を従来のKirchhoffの方法では正確に扱えないために,未だに,十分には解明されていない。本論文では,簡易な仮想収差モデルを開発して,Mask 3D形状効果とレジストの厚膜効果を同時に調べた。この簡易モデルを用いることにより計算負荷が大幅に低減され,従来のシミュレータを使ってMask 3D効果とレジスト効果を評価することができた。

シソーラス用語： *フォトレジスト ,  *収差 ,  *フォトマスク ,  *三次元 ,  レンズ ,  厚膜 ,  Kirchhoffの法則 ,  *シミュレータ ,  長さ ,  リソグラフィー ,  電磁場解析 ,  有限差分時間領域法
準シソーラス用語： プロジェクションレンズ ,  クリティカルディメンジョン

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光学情報処理  (BD03060T)

タイトルに関連する用語 (6件)： マスク ,  次元効果 ,  レジスト ,  仮想 ,  収差 ,  モデル