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J-GLOBAL ID：201502203234943160   整理番号：15A1172239

高k金属-絶縁体-金属キャパシタのための化学機械研磨技術を用いた超平担BaTiO₃表面モフォロジー

Ultra-smooth BaTiO₃ surface morphology using chemical mechanical polishing technique for high-k metal-insulator-metal capacitors

著者 (4件)： SUNG H.K. (Dep. of Electronic Engineering, Kwangwoon Univ., 20 Gwangun-Ro, Nowon-gu, Seoul 139-701, KOR) ,  SUNG H.K. (Korea Advanced Nano Fab Center (KANC), 109 Gwanggyo-Ro, Yeongtong-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 443-270, KOR) ,  WANG C. (Dep. of Electronic Engineering, Kwangwoon Univ., 20 Gwangun-Ro, Nowon-gu, Seoul 139-701, KOR) ,  KIM N.Y. (Dep. of Electronic Engineering, Kwangwoon Univ., 20 Gwangun-Ro, Nowon-gu, Seoul 139-701, KOR)
資料名： Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)
巻： 40  ページ： 516-522  発行年： 2015年12月 
JST資料番号： W1055A  ISSN： 1369-8001  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エアロゾル堆積法(ADM)によるチタン酸バリウム(BTO)の表面粗さは,高k金属-絶縁体-金属キャパシタにおいて用いる可能性に影響を与える極めて重要な特性である。ADMは,セラミック膜を堆積するための最良の候補であるが,2つの大きな問題がある。即ち,巨視的な欠陥とBTO表面上の粗い界面効果である。ここでは,懸濁液タイプ,ヘッド回転速度及び下向き圧力を含むいくつかの要因を最適化することによって,超平坦BTO表面モフォロジーを得るために,化学機械研磨(CMP)技術を適用する。統計的に,下向き圧力が5kg/cm²の下でヘッド回転速度が70rpmの二段階研磨プロセスを用いて,1.746nmのBTO表面2乗平均誤差(RMS)値を達成できた。このRMS値は,以前の研究と比較して少なくとも8倍改善される。この分析は,選択したBTO表面領域の代表パターン画像,三次元画像,ラインプロファイル,ヒストグラム,パワースペクトルに基づき,エネルギー分散型X線分析及びX線光電子分光法の両方からのデータによって証明される。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *薄膜コンデンサ ,  *MIM構造 ,  チタン酸バリウム ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  化学機械研磨 ,  *平坦性 ,  表面粗さ ,  懸濁液 ,  X線光電子分光法 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  エアロゾル ,  ヒストグラム
準シソーラス用語： MIMキャパシタ ,  表面モルフォロジー

分類 (2件)： LCR部品  (NA05030D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 絶縁体 ,  キャパシタ ,  化学機械研磨 ,  BaTiO3 ,  表面モフォロジー