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J-GLOBAL ID:201502203437139405   整理番号:15A1230466

高マイクロ波電力と純粋窒素/メタン/水素プラズマを使ったナノ結晶ダイヤモンド膜の高速成長

High rate growth of nanocrystalline diamond films using high microwave power and pure nitrogen/methane/hydrogen plasma
著者 (9件):
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巻: 122  号: PB  ページ: 342-346  発行年: 2015年12月 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,高電力条件下でマイクロ波プラズマ支援化学蒸着(MPCVD)によるナノ結晶ダイヤモンド(NCD)膜の成長特性に従来型のメタン/水素混合ガスへ少量の純粋窒素を添加した場合の影響を研究した。NCD膜は,4%CH4/H2混合ガスから,2種類の添加N2濃度,3.0kWから4.0kWの範囲のマイクロ波電力で,他の作動パラメータは一定に保って形成した。得られたNCD膜の形態,結晶粒サイズ,ミクロ構造,及び組織は,走査電子顕微鏡(SEM),顕微Raman分光法,及びX線回折(XRD)法を使って特性評価した。N2添加は,用いた条件下でNCD膜が形成し,成長特性の重要な変化が起こる主要なパラメータであることが分った。5.4μm/hから9.6μm/hの範囲の成長速度がNCD膜に対して得られた。これは通常,文献に報告されているものより非常に高い。NCD成長速度への窒素添加の増強因子は,窒素なしで成長させた大型結晶粒の微結晶ダイヤモンド膜の成長速度と比較して得て,文献の理論研究を通して単結晶ダイヤモンドの場合と比較して論じた。NCD成長速度で実現した結果により,この技術は,大型の基板の高速被覆が高度に望まれている工業への応用に興味あるものになる。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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