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J-GLOBAL ID：201502204441953792   整理番号：15A0792764

第一原理解析によるガリウム修飾ZnAl₂O₄スピネル酸化物触媒上でのCH₄によるNO₂還元に対するO₂の影響

Effect of O₂ on reduction of NO₂ with CH₄ over gallium-modified ZnAl₂O₄ spinel-oxide catalyst by first principle analysis

著者 (9件)： XIANG Chao (Fac. of Material Sci. and Engineering, Kunming Univ. of Sci. and Technol., Kunming 650093, CHN) ,  TAN Honglin (Fac. of Material Sci. and Engineering, Kunming Univ. of Sci. and Technol., Kunming 650093, CHN) ,  LU Jiansheng (Fac. of Material Sci. and Engineering, Kunming Univ. of Sci. and Technol., Kunming 650093, CHN) ,  YU Lan (Fac. of Material Sci. and Engineering, Kunming Univ. of Sci. and Technol., Kunming 650093, CHN) ,  SONG Peng (Fac. of Material Sci. and Engineering, Kunming Univ. of Sci. and Technol., Kunming 650093, CHN) ,  ZENG Chunhua (Fac. of Sci., Kunming Univ. of Sci. and Technol., Kunming 650093, CHN) ,  LIANG Yong (Inst. of Product, Lingyun Group Hebei Yanxing Machinery Co., Ltd., Zhangjiakou 075000, CHN) ,  TAO Shigang (Fac. of Material Sci. and Engineering, Kunming Univ. of Sci. and Technol., Kunming 650093, CHN) ,  CHEN Zhibin (Fac. of Material Sci. and Engineering, Kunming Univ. of Sci. and Technol., Kunming 650093, CHN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 349  ページ： 138-146  発行年： 2015年09月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガリウム修飾ZnAl₂O₄触媒表面のCH₄によるNO₂の選択触媒還元(SCR)に対するO₂の影響を密度汎関数理論(DFT)に基づいた第一原理計算により調べた。その結果,NO₂はH₂O,O₂,CH₄,CO₂及びN₂のような他の分子よりも強い-56.33kcalmol^-1の高吸着エネルギーをもつそのN側を介してGaと相互作用することが分かった。それらの間でH₂Oは活性成分としてGaよりもZnに優先的に吸着された。加えて,O₂とNO₂の共吸着は強く反発的で,O₂はH-C(O-N)結合の強さにほとんど影響しなかった。反応物とO₂の間の反発がはるかに弱い金属-吸着材の結合(Ga-N及びAl-C結合)形成の原因であった。生成物とO₂の間の負の反発ははるかに強い表面-吸着物結合(Zn-O,Al-C及びGa-N結合)の形成をもたらせた。さらに,O₂有りまたは無しでの反応のエンタルピーはそれぞれ-195.53及び-165.30kcalmol^-1であった。反応体及び生成物両者は触媒表面のO₂吸着後より高いエネルギー準位へ押し上げられた。O₂はCH₄-NO₂のSCR反応の活性化エネルギーを引き下げ,SCR反応温度の低下を引き起こした。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *亜鉛化合物 ,  *アルミン酸塩 ,  ガリウム ,  ドーピング ,  スピネル型結晶 ,  *触媒 ,  *二酸化窒素 ,  *接触還元 ,  *酸素 ,  触媒活性 ,  *第一原理 ,  密度汎関数法 ,  数値計算 ,  水 ,  *吸着エネルギー ,  共吸着 ,  エンタルピー ,  活性化エネルギー ,  反応温度 ,  *排ガス処理 ,  有害ガス ,  活性部位 ,  アルカン
準シソーラス用語： *アルミン酸亜鉛 ,  *選択触媒還元

分類 (3件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  吸着の電子論  (CB12042Y) ,  有害ガス処理法  (SC04030H)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (9件)： 第一原理 ,  解析 ,  ガリウム ,  修飾 ,  スピネル ,  酸化物触媒 ,  NO2 ,  還元 ,  O2