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J-GLOBAL ID：201502204740997860   整理番号：15A0506111

X線回折法を用いたボロンドープ超伝導ダイヤモンド薄膜の臨界膜厚評価

著者 (5件)： 柴田将暢 (早稲田大 理工) ,  蔭浦泰資 (早稲田大 理工) ,  山口尚秀 (物質・材料研究機構) ,  高野義彦 (物質・材料研究機構) ,  川原田洋 (早稲田大 理工)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 62nd  ページ： ROMBUNNO.11P-C1-3  発行年： 2015年02月26日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,  *膜厚 ,  格子歪 ,  *超伝導体 ,  *格子不整合 ,  *不整合転位 ,  表面粗さ ,  顕微鏡観察 ,  超伝導薄膜 ,  *ボロンドープダイヤモンド ,  原子間力顕微鏡法 ,  ダイヤモンド膜 ,  *鉱石 ,  *宝石
準シソーラス用語： ダイヤモンド薄膜 ,  *臨界膜厚

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  その他の超伝導体の物性  (BM04025Q)

タイトルに関連する用語 (6件)： X線回折法 ,  超伝導 ,  ダイヤモンド薄膜 ,  臨界 ,  膜厚 ,  評価