文献

J-GLOBAL ID：201502204750164654   整理番号：15A0804404

磁化誘導結合プラズマにおけるプラズマパラメータの空間分布に関する研究

Study on spatial distribution of plasma parameters in a magnetized inductively coupled plasma

著者 (6件)： CHEONG Hee-woon (Plasma Lab., Inter-University Semiconductor Res. Center, Dep. of Electrical and Computer Engineering, Seoul National ...) ,  LEE Woohyun (Plasma Lab., Inter-University Semiconductor Res. Center, Dep. of Electrical and Computer Engineering, Seoul National ...) ,  KIM Ji-won (Plasma Lab., Inter-University Semiconductor Res. Center, Dep. of Electrical and Computer Engineering, Seoul National ...) ,  WHANG Ki-woong (Plasma Lab., Inter-University Semiconductor Res. Center, Dep. of Electrical and Computer Engineering, Seoul National ...) ,  KIM Hyuk (Samsung Electronics Co., Banwol-dong, Hwaseong 445-701, KOR) ,  PARK Wanjae (Tokyo Electron Miyagi Ltd., Taiwa-cho, Kurokawa-gun, Miyagi 981-3629, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 33  号： 4  ページ： 041304-041304-7  発行年： 2015年07月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 誘導結合プラズマ(ICP)及び磁化誘導結合プラズマ(M-ICP)におけるプラズマ密度,電子温度,及び動径密度のような各種プラズマパラメータの空間分布を研究し,比較した。M-ICPのrfウィンドウと基板ホルダーとの間における電子温度は,ICPのそれより高く,他方,M-ICPの基板ホルダー直上のそれは,弱い(<8G)磁場を使用するとき,ICPのそれと同程度であった。結果として,M-ICPにおける動径密度は,ICPにおけるそれよりも高く,M-ICPにおける酸化物のエッチ速度は,90nm高アスペクト比接触細孔エッチにおける深刻な電子帯電が無く,ICPにおけるよりも速かった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *誘導結合プラズマ ,  *プラズマ密度 ,  *電子温度 ,  *空間分布 ,  基板 ,  加工速度
準シソーラス用語： *磁化誘導結合プラズマ ,  エッチ速度

分類 (1件)： プラズマ診断  (BJ02090L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 磁化 ,  誘導結合プラズマ ,  プラズマパラメータ ,  空間分布 ,  研究