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J-GLOBAL ID：201502204791659676   整理番号：15A0882862

MEMSの自己位置決めのための薄膜の不整合歪に対する電気めっき条件のパラメータ研究

Parametric study of electroplating conditions on mismatch strain of thin film for self-positioning of MEMS

著者 (1件)： KIM Sang-Hyun (Hansung Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 25  号： 7  ページ： 075011,1-9  発行年： 2015年07月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 作りこまれた不整合歪を持つ多層構造の自己位置決め現象は,三次元(3D)微細構造を持つMEMSの製作に応用される。このため,不整合歪のメカニズムと,それを応用した3Dアーキテクチャの最終形状の研究が重要である。本稿では,原子間力顕微鏡(AFM)カンチレバーのチップ面にニッケル薄膜を電気めっきし,自己位置決めのための不整合歪現象を調べた。その結果,ある厚みに対してめっき電流密度とめっき温度の上昇により不整合歪が増加することが分かった。最大たわみ率と不整合歪は2種類の材料が接続される部分で生じた。これらの実験結果を使ってAFMカンチレバーの自己変形形状とたわみの予測を行った。

シソーラス用語： *MEMS ,  位置決め ,  *格子歪 ,  格子不整合 ,  電気めっき ,  *原子間力顕微鏡 ,  ニッケルめっき ,  電流密度 ,  片持梁 ,  めっき条件 ,  たわみ ,  多層構造 ,  微細構造
準シソーラス用語： カンチレバー ,  自己位置決め ,  *不整合歪

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子顕微鏡,イオン顕微鏡  (BD02050B)

タイトルに関連する用語 (7件)： MEMS ,  自己位置決め ,  薄膜 ,  不整合歪 ,  電気めっき ,  パラメータ ,  研究