RFスパッタリングによって蒸着されたナノ結晶TiO<sub>2</sub>薄膜の低温成長研究

SAFEEN K; SAFEEN K; MICHELI V; BARTALI R; GOTTARDI G; LAIDANI N

文献

J-GLOBAL ID：201502204966695590 整理番号：15A0938933

RFスパッタリングによって蒸着されたナノ結晶TiO₂薄膜の低温成長研究

Low temperature growth study of nano-crystalline TiO₂ thin films deposited by RF sputtering

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資料名：
巻： 48 号： 29 ページ： 295201,1-13 発行年： 2015年07月29日
JST資料番号： B0092B ISSN： 0022-3727 CODEN： JPAPBE 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

この研究では,薄膜が種々の基板温度でAr及びAr-O₂放電でのRFスパッタリングを使用するセラミックTiO₂ターゲットにより蒸着された。プラズマ特性がガス組成の広い範囲で発光分光法によって研究された。一方,膜の構造および化学的性質がX線回折とX線光電子分光法を使用して調べられた。アナターゼとルチル相が室温(RT)と300°Cでそれぞれ成功裏に成長させられた。論文は,まず,TiO₂膜の構造特性に及ぼす成長温度とガス混合物中の酸素濃度の効果を研究した。次に,化学量論及び酸素空格子点のような膜の化学特性が記述される。最後に,TiO₂膜の低温結晶化のプラズマ化学とプラズマ種の役割が検討される。筆者らの結果は,酸素負のイオン,酸素空格子点,そして基板での表面エネルギー状態は低温で製作された膜の相を制御する重要なパラメータであうことを示す。

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酸化物薄膜 , スパッタリング

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RFスパッタリングによって蒸着されたナノ結晶TiO2薄膜の低温成長研究

RFスパッタリングによって蒸着されたナノ結晶TiO₂薄膜の低温成長研究