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J-GLOBAL ID：201502205071607659   整理番号：15A1046069

ナノホールマスク注入ドーパントイオン分布の3次元アトムプローブ計測-シングルイオン注入法の照準位置精度の向上-

著者 (7件)： 矢野真麻 (早稲田大 理工) ,  千葉悠貴 (早稲田大 理工) ,  清水康雄 (東北大 金属材料研) ,  井上耕治 (東北大 金属材料研) ,  永井康介 (東北大 金属材料研) ,  谷井孝至 (早稲田大 理工) ,  品田高宏 (東北大 CIES)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 76th  ページ： ROMBUNNO.14P-PB11-1  発行年： 2015年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *三次元測定 ,  形状測定 ,  イオン密度 ,  ドーパント ,  ナノ構造 ,  細孔 ,  *イオン注入 ,  イオン照射 ,  コリメーション ,  精度 ,  *原子プローブFIM ,  ケイ素 ,  リン ,  ゲルマニウム ,  フォトマスク
準シソーラス用語： イオン分布 ,  ナノホール ,  位置精度

分類 (3件)： 電子顕微鏡,イオン顕微鏡  (BD02050B) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 注入 ,  ドーパント ,  イオン分布 ,  3次元アトムプローブ ,  計測 ,  イオン注入法 ,  照準 ,  位置精度