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J-GLOBAL ID：201502206490372757   整理番号：15A0872857

高性能の近赤外線遮蔽Cs_xWO₃/SiO₂複合樹脂皮膜の調製と紫外線照射下でのその光学的安定性に関する研究

The preparation of a high performance near-infrared shielding Cs_xWO₃/SiO₂ composite resin coating and research on its optical stability under ultraviolet illumination

著者 (7件)： ZENG Xianzhe (State Key Lab. of High Performance Ceramics and Superfine Microstructure, Shanghai Inst. of Ceramics, Univ. of ...) ,  ZHOU Yijie ,  JI Shidong ,  LUO Hongjie ,  YAO Heliang ,  HUANG Xiao ,  JIN Ping
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 3  号： 31  ページ： 8050-8060  発行年： 2015年08月21日 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： セシウムドーピングタングステンブロンズCs_xWO₃は,太陽光フィルタに用いる理想的な近赤外線(NIR)遮蔽材料である。しかしながら,樹脂膜中に分散されたCs_xWO₃ナノ粒子は紫外線(UV)照射下で明らかなフォトクロミック挙動を示し,これにより,Cs_xWO₃の商業的応用の妨げとなっている。本論文で,Cs_xWO₃/SiO₂複合樹脂皮膜を,紫外線吸収剤(UVA)とSiO₂とを組み合わせることにより,強力なUV照明下で優れたNIR遮蔽能力および抜きん出た光学安定性を備えて調製できた。Cs_xWO₃/SiO₂複合樹脂皮膜のフォトクロミック挙動を防止するUVAとSiO₂の役割は活力があり,UVAでフォトクロミック反応速度を低下させ,SiO₂でフォトクロミック領域を制限した。全体として,Cs_xWO₃ベースの樹脂膜のフォトクロミズムを除去する新しい解決策を提供し,建築物や自動車での実用的な応用を有すると考えられた。Copyright 2015 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： 光学素子 ,  濾波器 ,  *セシウム化合物 ,  *タングステン酸塩 ,  ドーピング ,  金属イオン ,  *二酸化ケイ素 ,  *重合体 ,  *複合膜 ,  調製 ,  近赤外線 ,  *光学フィルタ ,  紫外線照射 ,  *安定性 ,  添加物効果 ,  物質 ,  可逆変化 ,  光照射 ,  紫外線吸収剤 ,  組合せ ,  反応速度 ,  X線回折 ,  スペクトル ,  光透過 ,  透過率 ,  高分解能電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  制限視野回折 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  建築物 ,  自動車 ,  セシウムイオン ,  *樹脂 ,  透過スペクトル ,  フォトクロミック化合物
準シソーラス用語： *シリカ ,  フォトクロミック

分類 (5件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  高分子材料一般  (YH07010B) ,  薄膜一般  (BK14010X) ,  その他の光学的効果  (BM08040H)

タイトルに関連する用語 (10件)： 高性能 ,  近赤外線 ,  遮蔽 ,  SiO2 ,  樹脂皮膜 ,  調製 ,  紫外線照射 ,  光学 ,  安定性 ,  研究