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J-GLOBAL ID:201502206635199196   整理番号:15A1149102

L10構造を持つFePt系合金薄膜における基板面に垂直c軸配向の調整

Alignment of c-Axis Orientation Perpendicular to the Substrate Surface in FePt Alloy Thin Film with L10 Structure
著者 (5件):
資料名:
巻: 39  号:ページ: 167-176 (J-STAGE)  発行年: 2015年 
JST資料番号: Z0944A  ISSN: 1882-2924  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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(001)配向した多結晶の基層の上に,または(001)配向の単結晶基板上に形成されたL10構造を有するFePt合金薄膜は,基板表面に垂直なc軸を有する(001)変異体に加えて膜面内に横たわるc軸を持つ(100)変異体を含んでいる可能性がある。本研究では,高温アニールに続く低温堆積からなる2段階の形成方法を用いて,MgO(2nm)キャップ層の有り無しのFePt(2~40nm)の膜をMgOの(001)単結晶基板上に処理した。MgO(001)キャップ層の有り無しの不規則なFePt(001)単結晶膜は,200°Cの基板上でエピタキシャルに成長した。10nmよりも薄いフィルムの場合,面内および面外格子は,基板に対する膜の格子ミスフィットの適応のせいでそれぞれ膨張,収縮された。40nmまでの厚さの増加に共なって,歪みが緩和された。フィルムが600°Cでアニールされた場合,A1からL10への相変態が発生した。キャップ層は,歪み除去を抑制し,垂直方向に沿って相変態を促進するように見えた。厚さのMgOキャップ層を有する10nm未満のFePt膜のための二段階法の使用によって垂直になるようにc軸配向を制御した。それどころか,キャップ層ありの40nmの厚さの膜とキャップ層なしの2~40nmの厚さの膜は,少量のL10(100)変異体を取り込んだ。キャップ層ありの膜の順位度は,キャップ層なしの膜より高かった。キャップ層なしの2nm厚さの膜の場合,縞状表面が形成されるのに対して,キャップ層ありの膜は,調べたすべての厚さに対して,算術平均粗さが0.3nmより小さい平面を有した。L10(001)変異体のみからなる膜は,強い垂直磁気異方性と極めて低い面内飽和保磁力を示した。MgOキャップ層の導入は,基材表面に垂直なc軸の調整,L10の順序づけの促進,平坦な面の形成,及び強い垂直磁気異方性の達成に有用である。(翻訳著者抄録)
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分類 (3件):
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金属の結晶成長  ,  金属薄膜  ,  固体デバイス材料 
引用文献 (86件):
  • 1) O. A. Ivanov, L. V. Solina, V. A. Demshina, and L. M. Magat: Fiz. Metal. Metalloved., 35, 81 (1973).
  • 2) Y. S. Shur, L. M. Magat, G. V. Ivanova, A. I. Mitsek, A. S. Yermolenko, and O. A. Ivanov: Fiz. Met. Metalloved., 26, 241 1968.
  • 3) A. Ye. Yermakov and V. V. Maykov: Phys. Met. Metall., 69, 198 (1990).
  • 4) T. Suzuki, K. Harada, N. Honda, and K. Ouchi: J. Magn. Magn. Mater., 193, 85 (1999).
  • 5) N. Li and B. M. Lairson: IEEE Trans. Magn., 35, 1077 (1999).
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