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J-GLOBAL ID：201502207411345487   整理番号：15A1061793

深紫外でのアプリケーションのための低温バッファと超格子の連成構造物を利用する高品質AlNの成長と特性評価

Growth and characterization of high quality AlN using combined structure of low temperature buffer and superlattices for applications in the deep ultraviolet

著者 (4件)： KIM Jinwan (Korea Polytechnic Univ., Gyeonggi, KOR) ,  PYEON Jaedo (Korea Polytechnic Univ., Gyeonggi, KOR) ,  JEON Minhwan (Korea Polytechnic Univ., Gyeonggi, KOR) ,  NAM Okhyun (Korea Polytechnic Univ., Gyeonggi, KOR)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 54  号： 8  ページ： 081001.1-081001.4  発行年： 2015年08月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 貫通転位の減少が高品質AlN層を成長させるというAlN/Al_xGa_1-xN超格子(SLs)の成長と特性評価に関して本研究は報告します。最適化SLsの挿入は転位密度を有効に減少させ,そして高い結晶性の2.5μm厚のAlN層をもたらすことが示された。(0002)と(10<span style=text-decoration:overline>1</span>2)の両回折近傍のX線ロッキングカーブ(XRCs)の半値全幅(FWHM)がそれぞれ230と420まで減少したのが確認された。走査型電子顕微鏡法(SEM)と透過型電子顕微鏡法(TEM)マイクログラフによるエッチピット密度(EPD)からの転位密度の結果とXRCFWHMが良く一致した。この高品質で低い転位密度AlN層は高性能深UV発光ダイオードと電源デバイスのために重要です。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *バッファ層 ,  *人工超格子 ,  *窒化アルミニウム ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  貫通転位 ,  アルミニウム化合物 ,  *ガリウム化合物 ,  窒化物 ,  *転位密度 ,  結晶度 ,  ロッキングカーブ ,  FWHM ,  走査電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  *発光ダイオード ,  *真空紫外線
準シソーラス用語： X線ロッキングカーブ ,  エッチピット密度 ,  走査型電子顕微鏡 ,  *窒化ガリウムアルミニウム ,  半値全幅

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (18件)：

• J. F. Kaeding, Y. Wu, T. Fujii, R. Sharma, P. T. Fini, J. S. Speck, and S. Nakamura, J. Cryst. Growth 272, 257 (2004).
• D. Born, J. Kim, K. Lee, M. Jeon, C. Heo, J. Pyeon, and O. Nam, J. Nanosci. Nanotechnol. 15, 5144 (2015).
• M. H. Kim, T. Fujita, S. Fukahori, T. Inazu, C. Pernot, Y. Nagasawa, A. Hirano, M. Ippommatsu, M. Iwaya, T. Takeuchi, S. Kamiyama, M. Yamaguchi, Y. Honda, H. Amano, and I. Akasaki, Appl. Phys. Express 4, 092102 (2011).
• G. H. Yoo, H. S. Park, D. H. Lee, H. J. Lim, S. A. Lee, B. H. Kong, H. K. Cho, H. W. Park, H. Lee, and O. H. Nam, Curr. Appl. Phys. 11, S90 (2011).
• M. Imura, K. Nakano, G. Narita, N. Fujimoto, N. Okada, K. Balakrishnan, M. Iwaya, S. Kamiyama, H. Amano, I. Akasaki, T. Noro, T. Takagi, and A. Bandoh, J. Cryst. Growth 298, 257 (2007).

タイトルに関連する用語 (10件)： 深紫外 ,  アプリケーション ,  低温 ,  バッファ ,  超格子 ,  構造物 ,  高品質 ,  AlN ,  成長 ,  特性評価