WU Ernest について
IBM Res. Div., VT, USA について
STATHIS James について
IBM Res. Dev., NY, USA について
LI Baozhen について
IBM System and Technol. Group, VT, USA について
LINDER Barry について
IBM Res. Dev., NY, USA について
ZHAO Kai について
IBM System and Technol. Group, NY, USA について
BONILLA Griselda について
IBM Res. Dev., NY, USA について
Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium について
絶縁破壊 について
半導体プロセス について
時間依存性 について
クラスタ化 について
信頼性 について
可変性 について
モンテカルロ法 について
シミュレーション について
不均一性 について
再構成 について
膜厚 について
間隔 について
表面粗さ について
ゲート【半導体】 について
絶縁膜 について
標本抽出 について
ウエハ【IC】 について
ゲート絶縁膜 について
BEOL について
FEOL について
TDDB について
LER について
固体デバイス計測・試験・信頼性 について
絶縁破壊 について
BEOL について
MoL について
FEOL について
サンプリング について
臨界 について
解析 について