文献

J-GLOBAL ID：201502207760063375   整理番号：15A0976049

Ar⁺イオンエッチング法によるナノ硬度の推定

Nano-hardness estimation by means of Ar⁺ ion etching

著者 (6件)： BARTALI R. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA) ,  MICHELI V. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA) ,  GOTTARDI G. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA) ,  VACCARI A. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA) ,  SAFEEN M.K. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA) ,  LAIDANI N. (Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 589  ページ： 376-380  発行年： 2015年08月31日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ規模の被覆の機械的性質は通常の方法では容易に推定できない。本論文では,Ar⁺イオン照射により誘起したスパッタリング速度に基づいて,薄膜の機械的性質を評価する半経験的方法を示した。Ar⁺イオン照射はAuger電子分光法に実装されているイオン銃により行った。この手順を構造の異なる一連の被覆(炭素膜)及び密度の異なる一連の被覆(ZnO薄膜)に適用した。被覆層はRFスパッタリングによりSi基板上に堆積させた。結果はInsepovらの予測したように,硬度とスパッタリング速度の間に相関があることを示した。基準材料と簡単な冪乗則方程式を用いて,Ar⁺ビームによりナノ硬度を推定できる。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *イオンエッチング ,  *微小硬さ ,  イオンビーム ,  アルゴン ,  RFスパッタリング ,  イオン照射 ,  *薄膜 ,  酸化亜鉛 ,  電子顕微鏡観察 ,  ナノインデンテーション ,  腐食速度
準シソーラス用語： アルゴンイオン ,  *ナノ硬度

分類 (1件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (3件)： イオンエッチング法 ,  ナノ硬度 ,  推定