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J-GLOBAL ID：201502208810887044   整理番号：15A1075965

パターン認識技術の応用展開-外観検査から予防保全へ-

著者 (1件)： 渋谷久恵 (日立 生産イノベーションセ)
資料名： 映像情報メディア学会技術報告
巻： 39  号： 30(ME2015 79-101)  ページ： 73-78  発行年： 2015年08月17日 
JST資料番号： S0209A  ISSN： 1342-6893  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本稿では,パターン認識技術の応用展開として,2つの異なる分野での研究開発について紹介する。第一の分野は,半導体ウェハあるいはFPD(Flat Panel Display)の外観検査である。外観検査で得られる位置情報や画像情報をもとに欠陥を分類する技術を開発した。第二の分野は設備の予防保全,特に状態監視保全を実現する保守サービスである。複数のセンサ信号に基づく異常予兆検知と検知した異常の関連センサ特定技術を開発した。2つの分野の開発技術の共通点と相違点についても述べる。(著者抄録)

シソーラス用語： *パターン認識 ,  *外観検査 ,  *予防保全 ,  フラットパネルディスプレイ ,  欠陥検査 ,  保守管理 ,  監視制御システム ,  センサ ,  検出
準シソーラス用語： 異常検出 ,  半導体ウェハ

分類 (3件)： パターン認識  (JE07000S) ,  品質検査  (KB04020L) ,  設備管理  (KB02020X)

引用文献 (18件)：

• 高木裕治,渋谷久恵,細谷直樹:”欠陥点サンプリング技術を利用した外観検査手法”,電学論C,124,3 pp.748-752(March2004)
• 渋谷久恵,高木裕治,中川泰夫:”点群分布パターン識別に基づく欠陥分類方法”,電学論C,127,4,pp.521-527(April 2007)
• H. Shibuya, Y. Takagi : ”Practical Pattern Detection from Distributed Defect Points on a Semiconductor Wafer”, Proceedings of MVA2002, pp.10-13 (Dec. 2002)
• 宮本敦,本田敏文:”SEM-ADC用異物膜上/膜下分類アルゴリズムの開発”,信学論D,J91-D,6,pp.1604-1612(June2008)
• 戸田好実:”FPD検査装置の画像応用技術について”,精密工学会画像応用技術専門委員会研究会報告,22,3,pp.9-18(Now.2007)

タイトルに関連する用語 (5件)： パターン認識 ,  応用 ,  展開 ,  外観検査 ,  予防保全