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J-GLOBAL ID:201502209509804733   整理番号:15A0768139

シリコンを越えたパワースイッチング応用:SiCとGaNの素子の現状と将来展望

Power-switching applications beyond silicon: Status and future prospects of SiC and GaN devices
著者 (4件):
資料名:
巻: 40  号:ページ: 399-405  発行年: 2015年05月 
JST資料番号: W1595A  ISSN: 0883-7694  CODEN: MRSBEA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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パワースイッチングに応用するSiC,GaN素子の開発を4つの応用要件(高いブロッキング電圧,高電力効率,高スイッチング速度,ノーマリーオフ動作)に関して概説した,ON抵抗,寄生容量,エネルギーギャップ値など素子・材料特性を応用の観点から比較し,論じた。シリコン材料の基本的限界を概説して,SiCを使った市販されているSchottky障壁ダイオードやトランジスタの開発が可能となる材料の優れた点を説明した。さらに,Siの理論限界を越える技術進歩が可能となり,パワーエレクトロニクススイッチの作成コストを大幅に下げるGaNの可能性を分析した。
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
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トランジスタ  ,  ダイオード 

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