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J-GLOBAL ID：201502210090538203   整理番号：15A1079256

Cu₂ZnSnS₄化学量論ターゲットを用いたマグネトロンスパッタリングプラズマ中のCu,Zn,Sn,及びS原子の付着確率

Sticking probabilities of Cu, Zn, Sn, and S atoms in magnetron sputtering plasmas employing a Cu₂ZnSnS₄ stoichiometric target

著者 (4件)： NAFARIZAL Nayan (Div. of Quantum Sci. and Engineering, Hokkaido Univ., Kita 13, Nishi 8, Kita-ku, Sapporo 060-8628, JPN) ,  NAFARIZAL Nayan (Universiti Tun Hussein Onn Malaysia, Batu Pahat, Johor 86400, Malaysia) ,  KIKUCHI Shunya (Div. of Quantum Sci. and Engineering, Hokkaido Univ., Kita 13, Nishi 8, Kita-ku, Sapporo 060-8628, JPN) ,  SASAKI Koichi (Div. of Quantum Sci. and Engineering, Hokkaido Univ., Kita 13, Nishi 8, Kita-ku, Sapporo 060-8628, JPN)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 121  ページ： 26-31  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Cu₂ZnSnS₄(CZTS)化学量論ターゲットを用いたパルスマグネトロンスパッタリングプラズマのアフターグロー中の密度減衰の研究を行って,Cu,Zn,Sn,及びS原子の付着確率を評価した。原子密度の減衰時間定数と放電圧力との線形関係から,付着確率を評価した。Cu,Zn,及びSnの付着確率は殆ど同じであることが分った。一方,Cu,Zn,及びSnの付着確率を1と仮定すると,S原子の付着確率は0.7±0.1と低いことが分った。従って,スパッタ蒸着したCZTS薄膜中のS原子量と少ない組成になるのはSの小さい付着確率が原因であることが示される。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 付着係数 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  硫化物 ,  *銅化合物 ,  亜鉛化合物 ,  スズ化合物 ,  化学量論 ,  骨軟化症 ,  太陽電池
準シソーラス用語： 吸収層 ,  *付着確率

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (8件)： Cu2ZnSnS4 ,  化学量論 ,  ターゲット ,  Cu ,  Zn ,  Sn ,  S原子 ,  付着確率