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J-GLOBAL ID：201502210624005132   整理番号：15A0384493

ウエハ-マスクアラインメントによる大きい測定範囲を持つモアレに基づく絶対干渉測定

Moire-Based Absolute Interferometry With Large Measurement Range in Wafer-Mask Alignment

著者 (8件)： DI Chengliang (Univ., Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN) ,  DI Chengliang (Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci., Chengdu, CHN) ,  YAN Wei (Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci., Chengdu, CHN) ,  HU Song (Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci., Chengdu, CHN) ,  YIN Didi (Univ., Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN) ,  YIN Didi (Key Lab. Beam Control, Chinese Acad. Sci., Chengdu, CHN) ,  MA Chifei (Univ., Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN) ,  MA Chifei (Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci., Chengdu, CHN)
資料名： IEEE Photonics Technology Letters  (IEEE Photonics Technology Letters)
巻： 27  号： 1-4  ページ： 435-438  発行年： 2015年01月01日 
JST資料番号： T0721A  ISSN： 1041-1135  CODEN： IPTLEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *干渉測定 ,  ウエハ【IC】 ,  マスク ,  アラインメント ,  *光干渉法 ,  モアレ ,  干渉縞 ,  *フォトリソグラフィー
準シソーラス用語： モアレ干渉法 ,  モアレ縞

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  干渉測定と干渉計  (BD07070G)

タイトルに関連する用語 (6件)： ウエハ ,  マスク ,  アラインメント ,  測定範囲 ,  モアレ ,  干渉測定