文献

J-GLOBAL ID：201502210672470964   整理番号：15A1314148

空気中の高強度パルス光焼結技法による銅ナノワイヤ透明電極の高速作製

Fast fabrication of copper nanowire transparent electrodes by a high intensity pulsed light sintering technique in air

著者 (6件)： DING Su (State Key Lab. of Advanced Welding and Joining, Harbin Inst. of Technol., Harbin, 150001, China. [e-mail]) ,  JIU Jinting ,  TIAN Yanhong ,  SUGAHARA Tohru ,  NAGAO Shijo ,  SUGANUMA Katsuaki
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 17  号： 46  ページ： 31110-31116  発行年： 2015年12月14日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銅ナノワイヤ透明電極は低価格および銀ナノワイヤ系および酸化インジウムスズ(ITO)系の他の透明電極(TE)とほとんど同じ電気伝導率によって次第に関心を集めるようになっている。しかし,空気雰囲気中の銅の容易な酸化が原因となってCu NW TEの伝導率を改善するために不活性雰囲気または真空環境中での高温における後処理が必要であり,Cu NWの低価格の利点は大きく損なわれている。本論文においてはこれらのCu NWを室温において空気中で焼結し,同時に脱酸素して高伝導性ネットワークとするために高強度パルス光(HIPL)技法を導入した。Cu NWの強い光吸収能力は接触点におけるナノワイヤの溶接ならびに残留有機化合物,銅の酸化物および水酸化の薄い層の除去を空気中でも可能にした。わずか6ミリ秒の曝露処理によって水素雰囲気中高温で処理した他の膜より優れている22.9Ω□^-1のシート抵抗および550nmにおいて81.8%の透明度を有するCu NW TEを作製することができた。HIPLプロセスは簡単であり,容易に酸化されるCu NW TEを大きなスケールで空気雰囲気中で作製するのに便利かつ迅速であり,安価なCu NW TEの利用を大いに広げる。Copyright 2015 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *銅 ,  *ナノワイヤ ,  *透明電極 ,  光 ,  パルス ,  焼結 ,  シート抵抗 ,  透明度 ,  空気
準シソーラス用語： パルス光

分類 (2件)： 固-気界面一般  (CB12041H) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

タイトルに関連する用語 (9件)： 空気中 ,  高強度 ,  パルス ,  光焼結 ,  技法 ,  銅 ,  ナノワイヤ ,  透明電極 ,  作製