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J-GLOBAL ID:201502212053908842   整理番号:15A1215710

PbTiO_3の電子構造と伝導率に及ぼすNドーピングと酸素空格子点の効果【Powered by NICT】

The effects of N-doping and oxygen vacancy on the electronic structure and conductivity of PbTiO_3
著者 (3件):
資料名:
巻: 36  号:ページ: 043004-1-043004-6  発行年: 2015年 
JST資料番号: C2377A  ISSN: 1674-4926  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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スピン分極密度汎関数理論計算を用いて,p型NドープPbTiO_3の電子密度差,バンド構造と状態密度を調べた。さらに,NドープPbTiO_3中の酸素空格子点も議論した。窒素ドーパントは結晶に導入した後,NドープPbTiO_3システムであるスピン分極,スピンダウン価電子バンドは高エネルギー準位に移動し,Fermiエネルギー準位は価電子帯の頂部に移動し,最終的にバンドギャップが狭くなった。このプロセスでは,NドープPbTiO_3は,典型的なp型半導体特性を示した。酸素空格子点とN不純物はPbTiO_3中に共存した時,スピン分極現象ではない。伝導帯は下方に移動し,受容体は完全に補償されることが分かった。計算結果は実験データと一致した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (9件):
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薄膜成長技術・装置  ,  格子欠陥一般  ,  界面の電気的性質一般  ,  半導体の格子欠陥  ,  トランジスタ  ,  組織的硬化現象  ,  半導体薄膜  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  固体デバイス材料 
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