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J-GLOBAL ID:201502212148718446   整理番号:15A0392783

可視光下におけるAg/AgClミクロスフェアの光触媒活性と安定性に対するg-C3N4自己集合被覆の重要な影響

Critical influence of g-C3N4 self-assembly coating on the photocatalytic activity and stability of Ag/AgCl microspheres under visible light
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巻: 168-169  ページ: 472-482  発行年: 2015年06月 
JST資料番号: W0375A  ISSN: 0926-3373  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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g-C3N4被覆Ag/AgCl可視光駆動光触媒を,室温において単純な一般的自己集合法によって合成した。走査型電子顕微鏡(SEM)及び透過型電子顕微鏡(TEM)像によるとこれら触媒は制御された被覆状態をもった一様な形態を示した。広範な構造及び表面解析によると,g-C3N4の存在はAg/AgCl光触媒の表面特性に顕著な影響を与えた。光触媒活性は可視光下でg-C3N4の被覆率に著しく依存し,1wt%が最適な被覆率であった。再利用実験によると,g-C3N4-Ag/AgCl触媒は優れた繰り返し性能と安定性を有していることが確認された。これらの結果は,自己集合g-C3N4被覆処理がAg/AgClプラズモン光触媒の可視光駆動光触媒活性と安定性に重要な影響を与えることを示唆した。この強化された光触媒活性と安定性は安定したg-C3N4-Ag/AgClヘテロ接合の形成に起因し,このことが光誘起電荷担体の効率的空間分離をもたらすものと思われる。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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光化学反応  ,  下水,廃水の化学的処理 
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