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文献
J-GLOBAL ID:201502212520318817   整理番号:15A1289295

ナノ微細構造形成技術の新展開 4 ナノインプリント手法によるガラスやポリマー上での単原子レベル極微細パターン形成

著者 (2件):
資料名:
巻: 83  号: 11  ページ: 1016-1020 (J-STAGE)  発行年: 2015年 
JST資料番号: G0072A  ISSN: 1344-3542  CODEN: EECTFA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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ボトムアップ及びトップダウン手法を組合せ,酸化物単結晶・セラミックスにおける自己組織化現象を用いたナノ・単原子スケールのモールド合成,及び酸化物ガラスやポリマーなど熱可塑性材料表面の単原子スケールパターン転写技術について筆者らの最近の研究成果を中心に紹介した。非晶質材料表面への単原子レベル転写プロセス,単原子レベルパターンモールドの自己組織的作製,単原子レベルインプリント転写,単結晶へき開モールドによる二次元単原子レベルインプリント転写,エレクトロニクスへの応用展開,について述べた。
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分類 (2件):
分類
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電気化学一般  ,  固体デバイス製造技術一般 

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