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J-GLOBAL ID：201502212664511255   整理番号：15A1140538

ハイブリッドナノインプリントソフトリソグラフィーに基づく近ゼロ残留層ナノインプリント

Near-zero-residual layer nanoimprint based on hybrid nanoimprint soft lithography

著者 (7件)： CUI Yushuang (Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...) ,  LU Jingjun (Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...) ,  FU Xinxin (Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...) ,  BIAN Jie (Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...) ,  YUAN Changsheng (Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...) ,  GE Haixiong (Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...) ,  CHEN Yanfeng (Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 121  号： 2  ページ： 371-375  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄く一様な残留層,特にゼロ残留層,はナノインプリントリソグラフィーにおいて強く望まれている。何故ならば,それがその後のパターン転写プロセスに決定的に重要であるからである。本報では,熱可塑性高分子の代わりのUV硬化樹脂に部分空洞充填法を適用して,ハイブリッドナノインプリントに基づくゼロ残留層を実現した。基板上のUV樹脂の初期厚さを樹脂濃度及びスピンコーティング速度の調整により,インプリント型の空洞体積以下に正確に数値化した。近ゼロ残留層を,UV樹脂の粘度,表面張力,及び厚さの制御により,極端に低いインプリント圧力下で達成することに成功した。Copyright 2015 Springer-Verlag Berlin Heidelberg Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *パターン転写 ,  *光重合型樹脂 ,  *スピンコーティング ,  空洞 ,  ハイブリッド系 ,  型 ,  残留物 ,  粘度 ,  界面張力 ,  膜厚 ,  高分子膜
準シソーラス用語： UV硬化樹脂 ,  *ソフトリソグラフィー ,  *ナノインプリントリソグラフィー ,  成形型

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

タイトルに関連する用語 (2件)： 残留 ,  ナノインプリント