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J-GLOBAL ID：201502212997151701   整理番号：15A1321078

直流マグネトロンスパッタリングで調整した,Mo-Al-Si-N薄膜の構造と機械的性質とに及ぼす窒素流率の効果

Effect of nitrogen flow rate on structure and mechanical properties of Mo-Al-Si-N films prepared by direct current magnetron sputtering

著者 (6件)： YUAN Zhigang (School of Mechanical Engineering and Automation, Wuhan textile Univ., Wuhan 430073, CHN) ,  SUN Li (School of Mechanical Engineering and Automation, Wuhan textile Univ., Wuhan 430073, CHN) ,  FANG Qianfeng (Key Lab. of Materials Physics, Inst. of Solid State Physics, Chinese Acad. of Sciences, Hefei 230031, CHN) ,  GONG Wenbang (School of Mechanical Engineering and Automation, Wuhan textile Univ., Wuhan 430073, CHN) ,  WU Xiao (School of Mechanical Engineering and Automation, Wuhan textile Univ., Wuhan 430073, CHN) ,  XU Zili (School of Mechanical Engineering and Automation, Wuhan textile Univ., Wuhan 430073, CHN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 594  号： PA  ページ： 18-23  発行年： 2015年11月02日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Mo-Al-Si-N薄膜を,直流マグネトロンスパッタリングにより,異なる窒素流率を用いて堆積させた。これら薄膜の構造および機械的性質を,X線回折,電界放出走査電子顕微鏡法,電界放出電子プローブ微量分析およびナノインデンテーションによって調べた。その結果は,窒素流率の7.5→30sccmの増大に伴って,堆積率は24.5→11.8nm/minの減少を示すこと,一方,薄膜の粒径は,先ず,24→14nmと減少し,次に,約25nmに増大すること,を示した。Mo-Al-Si-N薄膜の優先配向は,表面エネルギーの増大と,歪エネルギーの減少とに起因して,(111)から(200)に変化した。格子定数は,Mo-Al-Si-N薄膜の格子間位置を占める過剰窒素に起因して,4.177→4.186Åと増大した。窒素流率15sccmを用いて堆積したMo-Al-Si-N薄膜は,比較的高い硬度と,比較的良好な靭性とを示すこと,それらは主に粒径によって決まること,を指摘した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *複合膜 ,  *モリブデン ,  *アルミニウム ,  *ケイ素 ,  *窒素 ,  *スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  X線回折 ,  結晶構造 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  電子プローブX線分析 ,  微量分析 ,  ナノインデンテーション ,  表面エネルギー ,  歪エネルギー ,  格子間原子 ,  *硬度 ,  *靱性 ,  結晶粒径 ,  流量
準シソーラス用語： 直流マグネトロンスパッタリング ,  電界放出走査電子顕微鏡

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： 直流マグネトロンスパッタリング ,  Mo ,  Al ,  Si ,  薄膜 ,  機械的性質 ,  窒素