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J-GLOBAL ID：201502213103029388   整理番号：15A1047697

酸素を微量添加した水素ラジカルを用いたレジストの除去

著者 (6件)： 山本雅史 (香川高専) ,  梅本宏信 (静大) ,  大平圭介 (北陸先端科学技術大学院大) ,  鹿間共一 (香川高専) ,  西山聖 (大阪市大) ,  堀邊英夫 (大阪市大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 76th  ページ： ROMBUNNO.16P-4E-5  発行年： 2015年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *添加 ,  *酸素 ,  *ラジカル ,  *水素 ,  *除去 ,  *レジスト ,  半導体素子 ,  MEMS ,  *フォトリソグラフィー ,  環境影響 ,  膜厚 ,  流量 ,  実験装置 ,  *水素ラジカル ,  環境負荷 ,  ガス流量
準シソーラス用語： 微量添加 ,  ポジレジスト

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸素 ,  微量添加 ,  水素ラジカル ,  レジスト