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J-GLOBAL ID：201502213148094350   整理番号：15A1311790

電解銅ビアフィリング成績に及ぼすSPS分解生成物1,3-プロパンジスルホン酸の影響

Influence of SPS Decomposition Product 1,3-Propane Disulfonic Acid on Electrolytic Copper Via Filling Performance

著者 (8件)： KIMIZUKA Ryoichi (Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN) ,  KIMIZUKA Ryoichi (JCU Co., Kanagawa, JPN) ,  TODA Hisayuki (JCU Co., Kanagawa, JPN) ,  EDA Tetsuro (JCU Co., Kanagawa, JPN) ,  KISHIMOTO Kazuki (JCU Co., Kanagawa, JPN) ,  OH Reisei (JCU Co., Kanagawa, JPN) ,  HONMA Hideo (Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN) ,  TAKAI Osamu (Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 162  号： 12  ページ： D584-D588  発行年： 2015年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スルーホールめっきにおいてビアフィリングの性能を良くするため,電解質への添加物の影響は重要である。添加物のビス-(3-スルホプロピル)ジスルフィド(SPS)は電解中に酸化されて1,3-プロパンジスルホン酸(PDS)となり,めっきの成績に影響する。SPSの濃度を一定とし,PDS濃度を広範囲に変えて電着銅の表面性状及び構造を調べた。XRDで電着層の結晶構造と結晶構造転移を調べた。内部応力分析を行い伸展性も調べた。電着物中のCとSを燃焼赤外分光で調べた。PDSとSPSの競争吸着の影響を考察した。PDSはSPSを遮蔽し,SPSとの共析出はめっきの物理的性状に影響を与えることが分かった。

シソーラス用語： *スルホン酸 ,  *脂肪族化合物 ,  *スルーホールめっき ,  *充填 ,  性質 ,  めっき液 ,  *添加物効果 ,  電解質 ,  電解質溶液 ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  *銅めっき ,  結晶構造 ,  *アルカンスルホン酸 ,  *ビアフィリングめっき ,  表面形態 ,  構造
準シソーラス用語： *ビアフィリング ,  めっき浴 ,  伸展性 ,  表面モルフォロジー

分類 (3件)： 電極過程  (CB07040U) ,  電気めっき  (WC08023B) ,  金属薄膜  (BK14030T)

物質索引 (2件)： 1,3-プロパンジスルホン酸 ,  ビス(3-スルホプロピル)ジスルフィド

タイトルに関連する用語 (8件)： 電解 ,  銅 ,  ビアフィリング ,  成績 ,  SPS ,  分解生成物 ,  プロパン ,  ジスルホン酸