文献

J-GLOBAL ID：201502213788382700   整理番号：15A0227974

ラジオ周波数マグネトロンスパッタリングによるペロブスカイト型酸化および酸窒化物(Sr,La)-(Ta,Ti)O-N薄膜の成長:反応性雰囲気の薄膜構造への影響

Growth of (Sr,La)-(Ta,Ti)-O-N perovskite oxide and oxynitride films by radio frequency magnetron sputtering: Influence of the reactive atmosphere on the film structure

著者 (8件)： LE Paven C. (Inst. d’Electronique et de Telecommunications de Rennes (IETR, UMR-CNRS 6164), Equipe Materiaux Fonctionnels, IUT ...) ,  LE Gendre L. (Inst. d’Electronique et de Telecommunications de Rennes (IETR, UMR-CNRS 6164), Equipe Materiaux Fonctionnels, IUT ...) ,  BENZERGA R. (Inst. d’Electronique et de Telecommunications de Rennes (IETR, UMR-CNRS 6164), Equipe Materiaux Fonctionnels, IUT ...) ,  CHEVIRE F. (Inst. des Sciences Chimiques de Rennes (ISCR, UMR-CNRS 6226), Equipe Verres et Ceramiques, Univ. de Rennes 1, 35042 ...) ,  TESSIER F. (Inst. des Sciences Chimiques de Rennes (ISCR, UMR-CNRS 6226), Equipe Verres et Ceramiques, Univ. de Rennes 1, 35042 ...) ,  JACQ S. (Inst. d’Electronique et de Telecommunications de Rennes (IETR, UMR-CNRS 6164), Equipe Materiaux Fonctionnels, IUT ...) ,  TRAORE-MANTION S. (Inst. d’Electronique et de Telecommunications de Rennes (IETR, UMR-CNRS 6164), Equipe Materiaux Fonctionnels, IUT ...) ,  SHARAIHA A. (Inst. d’Electronique et de Telecommunications de Rennes (IETR, UMR-CNRS 6164), Equipe Materiaux Fonctionnels, IUT ...)
資料名： Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)
巻： 413  ページ： 5-11  発行年： 2015年03月01日 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しい誘電的および強誘電的化合物を探索する上で,著者らは強誘電性化合物Sr₂Ta₂O₇(T_Curie=-107°C)およびLa₂Ti₂O₇(T_Curie=-1461°C)から成るペロブスカイト型固溶体(Sr_1-xLa_x)₂(Ta_1-xTi_x)₂O₇に関心を持っている。室温近くのCurie点を達成するために,x=0.01の組成を選択して反応性ラジオ周波数マグネトロンスパッタリングにより合成した。酸素リッチなプラズマ中ではSr_0.99La_0.01)₂(Ta_0.99Ti_0.01)₂O₇薄膜が堆積し,これは(001)MgO基板上への(110)エピタキシャル成長で,バンドギャップはE_g=4.75eVであるとキャラクタライズされた。窒素リッチなプラズマを使用した場合,バンドギャップはE_g~2.10eVで組織化した多結晶または(001)MgO基板上へエピタキシャル成長したSr_0.99La_0.01)₂(Ta_0.99Ti_0.01)O₂N酸窒化薄膜を合成することができる。窒素濃度が低いスパッタリングプラズマではより大きな格子定数を有する窒素が不足した亜化学量論的酸窒化薄膜が合成されるCopyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *ペロブスカイト型結晶 ,  固溶体 ,  *強誘電体 ,  酸化物 ,  窒化物 ,  チタン酸塩 ,  ランタン化合物 ,  *ストロンチウム化合物 ,  *タンタル酸塩 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡
準シソーラス用語： *チタン酸ランタン ,  酸窒化物

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (14件)： ラジオ ,  マグネトロンスパッタリング ,  ペロブスカイト ,  酸化 ,  酸窒化物 ,  Sr ,  La ,  Ta ,  Ti ,  薄膜 ,  成長 ,  反応性 ,  雰囲気 ,  膜構造