UV光照射による表面湿潤性の制御可能なポリイミドに対する光酸発生剤の影響

TSUDA Yusuke; TAHIRA Mizuki; SHINOHARA Natsumi; SAKATA Daichi

文献

J-GLOBAL ID：201502213885182104 整理番号：15A0836297

UV光照射による表面湿潤性の制御可能なポリイミドに対する光酸発生剤の影響

Effect of Photoacid Generator on Surface Wettability Controllable Polyimides by UV Light Irradiation

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資料名：
巻： 28 号： 3 ページ： 313-318 発行年： 2015年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

側鎖に長鎖アルキルやかさ高いアルキル基を有するポリイミドを用いて,UV光照射による表面湿潤性の制御可能なポリイミドを系統的に検討した。本論文では,光酸発生剤や光塩基発生剤の添加効果を試験した。長鎖アルキロキシ基とフェニルエステル結合(12G1-AG-テルフェニルジアミン)を有するジアミンモノマの基づくポリイミドへのUV光照射(λmax;254nm)の結果として,光酸発生剤の添加が疎水性から親水性への表面湿潤性の制御に対して有効である事を証明した。一方,光塩基発生剤の添加は有効でなかった。従って,酸触媒されたエーテル開裂や酸触媒された光Fries転位のような酸触媒によって活性化された光反応はUV光照射後にヒドロキシル基のような親水性基の生成を促進する。適切な光酸発生剤が選択される場合にはUV光照射(λmax;365nm)によるこれらのポリイミドの表面湿潤性の制御を達成した。UV光(λmax;365nm)の使用は実用的な使用で利点がある。ATR分析の結果から,ポリイミドの表面の疎水性が低下して,それらの表面にヒドロキシル基のような親水性基が生成する事が認められる。(翻訳著者抄録)

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重縮合 , 高分子固体のその他の性質

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引用文献 (16件)：

1. “Polyimides”, M.Ghosh, and K.L.Miital, Eds., Dekker, New York, 1996.
2. “Polyimides and Other High Temperature Polymers: Synthesis, Characterization and Applications”, M.Ghosh, Ed., Vol. 5, Koninklike Brill NV, Leiden, 2009.
3. Y. Tsuda, T. Kawauchi, N. Hiyoshi, and S. Mataka, Polym.J., 32 (2000), 594.
4. Y. Tsuda, K. Kanegae, and S. Yasukouchi, Polym.J., 32 (2000), 941.
5. Y. Tsuda, M. Kojima, and J.-M. Oh, Polym.J., 38 (2006), 1043.

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