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J-GLOBAL ID：201502213941295081   整理番号：15A1189607

広結合トレランスを有する小型Siフォトニクストランシーバ用光I/O構造

Optical I/O Structure with Wide Allowable Displacement for Miniaturized Si Photonic Optical Transceivers

著者 (8件)： 上村寿憲 (技術研究組合光電子融合基盤技研) ,  浮田明生 (技術研究組合光電子融合基盤技研) ,  竹村浩一 (技術研究組合光電子融合基盤技研) ,  栗原充 (技術研究組合光電子融合基盤技研) ,  岡本大典 (技術研究組合光電子融合基盤技研) ,  牛田淳 (技術研究組合光電子融合基盤技研) ,  屋敷健一郎 (技術研究組合光電子融合基盤技研) ,  蔵田和彦 (技術研究組合光電子融合基盤技研)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 115  号： 195(EMD2015 30-59)  ページ： 109-114  発行年： 2015年08月20日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Si(シリコン)フォトニクスをベースとした超小型並列光モジュールである「光I/Oコア」に適用可能な光I/O構造を開発した。この光I/O構造には,フォトリソグラフィ法で作製される縦型ポリマ導波路「光ピン」を適用した。光線追跡法を用いて光I/Oコア用光ピンのRX,TXそれぞれの最適形状を求め,フォトリソグラフィ技術を用いて,その形状の光ピンを同時に125μmピッチで12本のアレイ状に作製した。試作した光ピンの挿入損失を評価した結果,RX,TXそれぞれ0.41dB,0.49dBという低い値が得られた。GI50MMFと光ピン間の許容位置ずれ量を評価したところ,許容損失1.0dB以下という条件下で,RX,TXそれぞれ±18μm,±5μmという十分に広い値が得られた。光ピンを実装した光I/OコアとGI50MMFを用いて光リンクを構成して伝送特性評価を行ったところ,25Gbps,PRBS(Pseudo random bit sequence)2³¹-1,Back to Backの条件下で明瞭なアイ開口が得られた。(著者抄録)

シソーラス用語： *結合 ,  *ケイ素 ,  *送受信機 ,  *光学素子 ,  *入出力 ,  回路モジュール ,  フォトリソグラフィー ,  光導波路 ,  レンダリング ,  挿入損 ,  アイパターン ,  *設計
準シソーラス用語： *トレランス設計 ,  ポリマ導波路 ,  *光トランシーバ ,  光モジュール ,  光線追跡法

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  光通信方式・機器  (ND10000B)

引用文献 (5件)：

• M. B. Ritter et cll., “Optical technologies for data communication in large parallel systems,“ Proc. of Topical Workshop on Electronics for Particle Physics 2010, Aachen, Germany, September20-24, 2010, pp. 1-12.
• Alan Benner, “Optical Interconnect Opportunities in Supercomputers and High End Computing“ in Proc. OFC2012, OTu2B.4, Los Angeles, USA, NAR. 2012.
• K. Yashiki et al., “5 mW/Gbps hybrid-integrated Si-photonics-based optical I/O cores and their 25-Gbps/ch error-free operation with over 300-m MMF,“ presented at the Optical Fiber Communication Conference and Exposition (OFC) 2015, Th1G.1, Los Angeles, CA, March 22-26, 2015.
• Y. Obata, M. Kanda, and O. Mikami, “Self-Written Waveguide Optical Pin Fabricated Using Photomask Transfer Method,“ IEEE Photonics Technology Letters, Vol. 18, No. 19, pp. 2020-2022, October 2006.
• T. Yamashita, M. Kagami, and H. Ito, “Waveguide Shape Control and Loss Properties of Light-Induced Self-Written (LISW) Optical Waveguides,“ Journal of Lightwave Technology, Vol. 20, NO. 8, pp. 1556-1562, August 2002.

タイトルに関連する用語 (2件)： Siフォトニクス ,  トランシーバ