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J-GLOBAL ID：201502214500963239   整理番号：15A1366508

デバイス応用のためのフォトリソグラフィーによる写真用紙基材上でのマイクロスケールの金属構造の製造

Fabrication of micron scale metallic structures on photo paper substrates by low temperature photolithography for device applications

著者 (2件)： COOKE M D (Durham Univ., Durham, GBR) ,  WOOD D (Durham Univ., Durham, GBR)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 25  号： 11  ページ： 115017,1-9  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標準的な市販の写真用紙上で,シリコン基板のパターン形成と同様のフォトリソグラフィプロセスが使える新しい技術を提示した。すなわち,商用光沢写真用紙基材上に金属層を選択的にパターニングするための新しいフォトリソグラフィ技術を実証した。フォトリソグラフィープロセスを使用できるということは,数十ミクロンのオーダーである従来の印刷ソリューションで作製されるデバイスをマイクロスケールにまで大幅にダウンサイジングできる。最小加工寸法を縮小することにより,デバイス性能を向上できるという大きな利点がある。紙の上に機能性電極を製造できるプロセスを提示し,このプロセスがさらにどのように発展する可能性があるかについて検討した。本プロセスは標準的なシリコン処理と互換性があり,紙の劣化を示さない。他の写真用紙の種類と互換性の可能性があろ。本技術は柔軟性,折り畳み可能,気孔率,軽量といった機能が追加できる,安価で使い捨て可能なデバイスの製造に対して大きな可能性を持っている。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  長さ ,  ウエハ【IC】 ,  *写真用紙 ,  *金属構造 ,  パターン形成 ,  ダウンサイジング ,  固体素子
準シソーラス用語： シリコン基板 ,  マイクロスケール ,  マイクロデバイス ,  マイクロパターニング ,  最小加工寸法

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  感光材料  (ZA03020Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： 応用 ,  フォトリソグラフィー ,  写真用紙 ,  マイクロスケール ,  金属構造