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J-GLOBAL ID：201502214582323720   整理番号：15A1073427

高周波プラズマ支援化学蒸着法を用いて合成したa-C:H:SiO_x膜の機械的特性評価

Mechanical characterization of a-C:H:SiO_x coatings synthesized using radio-frequency plasma-assisted chemical vapor deposition method

著者 (11件)： BATORY D. (Inst. of Materials Sci. and Engineering, Lodz Univ. of Technol., 1/15 Stefanowskiego St, 90-924 Lodz, POL) ,  BATORY D. (Inst. for Nanomaterials, Advanced Technologies and Innovation, Technical Univ. of Liberec, 2 Studentska St, 461 17 ...) ,  JEDRZEJCZAK A. (Inst. of Materials Sci. and Engineering, Lodz Univ. of Technol., 1/15 Stefanowskiego St, 90-924 Lodz, POL) ,  SZYMANSKI W. (Inst. of Materials Sci. and Engineering, Lodz Univ. of Technol., 1/15 Stefanowskiego St, 90-924 Lodz, POL) ,  NIEDZIELSKI P. (Inst. of Materials Sci. and Engineering, Lodz Univ. of Technol., 1/15 Stefanowskiego St, 90-924 Lodz, POL) ,  FIJALKOWSKI M. (Inst. for Nanomaterials, Advanced Technologies and Innovation, Technical Univ. of Liberec, 2 Studentska St, 461 17 ...) ,  LOUDA P. (Inst. for Nanomaterials, Advanced Technologies and Innovation, Technical Univ. of Liberec, 2 Studentska St, 461 17 ...) ,  KOTELA I. (Dep. of Orthopedic Surgery and Traumatology, Central Res. Hospital of Ministry of Interior, 137 Woloska St., 02-507 ...) ,  KOTELA I. (Inst. of Physiotherapy, The Jan Kochanowski Univ. of Humanities and Sciences, 19 IX Wiek’ow Kielc St. 25-317 Kielce, POL) ,  HROMADKA M. (Dep. of Physics, Fac. of Applied Sciences, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 8, CZ-30614 Plzen, CZE) ,  MUSIL J. (Dep. of Physics, Fac. of Applied Sciences, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 8, CZ-30614 Plzen, CZE)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 590  ページ： 299-305  発行年： 2015年09月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： メタンとヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)を用いたRF PACVD(高周波プラズマ支援化学蒸着)法により,研磨したシリコン基板上にa-C:H膜を含む一連のSiO_xを堆積した。3種類のCH₄/HMDSO流量比と4種類の自己バイアス電圧を適用して,異なる特性及びシリコン/酸素濃度を有する12種類の a-C:H:SiO_xを合成した。フーリエ変換赤外分光法により,堆積膜の化学構造を決定した。ナノインデンテーション(硬度及び弾性率)及びプロフィロメトリー(残留応力)法を用いて,SiO_x組み込み炭素膜の機械的特性の詳細な特徴付けを行った。硬度及び弾性率を用いて,耐久性(H/E)及び塑性変形(H³/E²)に対する抵抗の評価を行った。負荷と無負荷曲線に基づいて,弾性回復を計算した。SiO_xを組み込むことにより,ダイヤモンド状カーボン膜の残留応力を効果的に減少させることができた。印加した自己バイアス電圧に応じて残留応力を低減する機構を提案した。試験した全ての膜について,SiO_xの添加は,硬度を低下させ,高い自己バイアスに対して,耐久性及び塑性変形に対する抵抗の増加が観察された。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *炭素材 ,  *ダイヤモンド状炭素 ,  *酸化ケイ素 ,  *プラズマCVD ,  *評価 ,  電圧 ,  硬度 ,  弾性係数 ,  残留応力 ,  塑性変形 ,  アルカン
準シソーラス用語： *非晶質炭素 ,  *ダイヤモンド状カーボン ,  *シリコン酸化物 ,  *プラズマ支援化学蒸着 ,  *機械的特性評価 ,  バイアス電圧 ,  弾性率

分類 (4件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

物質索引 (2件)： メタン ,  ヘキサメチルジシロキサン

タイトルに関連する用語 (3件)： 高周波 ,  プラズマ支援化学蒸着法 ,  機械的特性評価