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J-GLOBAL ID：201502216058134980   整理番号：15A0642798

大気圧プラズマジェットを用いたシリコン表面エッチング

Etching of silicon surfaces using atmospheric plasma jets

著者 (3件)： PAETZELT H (Leibniz Inst. of Surface Modification, Leipzig, DEU) ,  BOEHM G (Leibniz Inst. of Surface Modification, Leipzig, DEU) ,  ARNOLD Th (Leibniz Inst. of Surface Modification, Leipzig, DEU)
資料名： Plasma Sources Science and Technology  (Plasma Sources Science and Technology)
巻： 24  号： 2  ページ： 025002,1-6  発行年： 2015年04月 
JST資料番号： W0479A  ISSN： 0963-0252  CODEN： PSTEEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *プラズマジェット ,  *プラズマ加工 ,  *ケイ素 ,  エッチング ,  *表面性状 ,  表面改質 ,  *プラズマエッチング
準シソーラス用語： *シリコン表面エッチング ,  *シリコン ,  *表面粗度

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (3件)： 大気圧プラズマジェット ,  シリコン ,  エッチング