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J-GLOBAL ID：201502216744219631   整理番号：15A1367968

最新の表面・界面分析 ダブルX線源X線光電子分光分析法

著者 (5件)： 山本哲也 (高知工科大 総合研) ,  野本淳一 (高知工科大 総合研) ,  牧野久雄 (高知工科大 総合研) ,  岩井秀夫 (物質・材料研究機構) ,  小林啓介 (高知工科大 総合研)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 66  号： 12  ページ： 608-613  発行年： 2015年12月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 表面層(1,2分子層,1nm)の領域では,検出深度が数nm程度とされるAlKαX線種を用いたXPSによる測定・解析が有効である。一方,表面相(1~10nm)における特性の測定・解析には,検出深度がより大きいX線種を用いたXPSが必要不可欠である。本稿では,表面層を含めた厚さ20nm程度なる厚みを有した表面相が呈する特性の評価を目的とした,実験室用ダブルX線源X線光電子分光(XPS)分析装置とその応用例について解説した。まず,CrKαX線を利用可能にするモノクロメータの設計,およびびCrKαX線源XPSの検出深度が具体的に示される例(SiO₂薄膜/Si基板)を紹介した。次に,酸化物の薄膜に対して大気暴露で想定される水分子や酸素分子の吸着,吸収の影響が,どの程度の深さまで及ぶのかを,ダブルX線源XPS装置で観察(Ga添加酸化亜鉛薄膜(GZO))した結果を紹介した。大気暴露の影響は,表面相では観察されなかった。

シソーラス用語： *X線光電子分光法 ,  X線モノクロメータ ,  表面構造 ,  構造解析 ,  *表面分析 ,  深さ分析 ,  水分子 ,  酸素 ,  二原子分子 ,  吸着 ,  吸収 ,  酸化亜鉛 ,  ガリウム ,  光電子スペクトル ,  結合エネルギー ,  化学シフト ,  X線源
準シソーラス用語： *XPS分析 ,  *化学状態 ,  界面分析

分類 (1件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K)

引用文献 (20件)：

• 1)社団法人日本化学会編 ; 化学便覧 基礎編 改訂4版,II p. 285(丸善(株), 1993).
• 2)丸山智将, 井上雅雄, 村田逞詮, 桜田 司 ; 表面と界面の不思議,p. 10(工業調査会, 1995).
• 3) K. Kobayashi, M. Yabashi, Y. Takata, T. Tokushima, S. Shin, K. Tamasaku, D. Miwa, T. Ishikawa, H. Nohira, T. Hattori, Y. Sugita, O. Nakatsuka, A. Sakai, S. Zaima ; Appl. Phys. Lett., 83, 1005 (2003).
• 4) Y. Takata, K. Tamasaku, T. Tokushima, D. Miwa, S. Shin, T. Ishikawa, M. Yabashi, K. Kobayashi, J. J. Kim, T. Yao, T. Yamamoto, M. Arita, H. Namatame, M. Taniguchi ; Appl. Phys. Lett., 84, 4310 (2004).
• 5) F. Wuilleumier, M. O. Krause ; Phys. Rev. A, 10, 242 (1974).

タイトルに関連する用語 (4件)： 界面分析 ,  X線源 ,  X線光電子分光 ,  分析法