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J-GLOBAL ID：201502217134975813   整理番号：15A0770297

フォトンファクトリーの放射光を利用した高分子材料分析

著者 (9件)： 高木秀彰 (高エネ研 PF) ,  清水伸隆 (高エネ研 PF) ,  五十嵐教之 (高エネ研 PF) ,  森丈晴 (高エネ研 PF) ,  西條慎也 (高エネ研 PF) ,  永谷康子 (高エネ研 PF) ,  大田浩正 (三菱電機SC) ,  古室昌徳 (高エネ研 PF) ,  野村昌治 (高エネ研 PF)
資料名： 繊維学会予稿集  (繊維学会予稿集秋季研究発表会)
巻： 70  号： 1 (CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.2P101  発行年： 2015年06月08日 
JST資料番号： L1827A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *高分子 ,  *小角X線散乱 ,  *高次構造 ,  分子鎖 ,  光源 ,  偏光 ,  電磁石 ,  エネルギー ,  波長

分類 (2件)： 機械的性質  (YH02022L) ,  化学的性質  (YH02030O)

タイトルに関連する用語 (4件)： フォトンファクトリー ,  放射光 ,  高分子材料 ,  分析