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J-GLOBAL ID：201502217644879222   整理番号：15A0457596

光触媒粉末WO₃とBiVO₄のOHラジカルの生成と酸化機構

Generation of OH radicals and oxidation mechanism in photocatalysis of WO₃ and BiVO₄ powders

著者 (2件)： ZHANG Jie (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol., 1603-1 Kamitomioka, Nagaoka 940-2188, JPN) ,  NOSAKA Yoshio (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol., 1603-1 Kamitomioka, Nagaoka 940-2188, JPN)
資料名： Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry  (Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)
巻： 303-304  ページ： 53-58  発行年： 2015年04月15日 
JST資料番号： D0721B  ISSN： 1010-6030  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： WO₃とBiVO₄に可視光により水を酸化し,O₂を生成方法のためかなり関心を持っている。光触媒酸化機構を明確にするために蛍光プローブとしてクマリンとクマリン-3-カルボン酸を用いて470nmLED照射下,光触媒反応でOHラジカル(OH)が生成することを,蛍光ブローブ法により検討した。WO₃によるOHの生成収率がアナターゼTiO₂と匹敵したが,BiVO₄ではかなり下がった。BiVO₄を堆積するとOH生成速度がBiVO₄では増加したが,WO₃の場合増加しなかった。H₂O₂を添加するとOHの収率が使用した光活性剤のどの場合も増加した。これらの結果を基にWO₃とBiVO₄の光触媒の酸化機構の違いについて考察した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *光触媒 ,  *酸化タングステン ,  *ヒドロキシルラジカル ,  *反応機構 ,  *光酸化 ,  粉体 ,  反応速度 ,  *バナジウム酸塩 ,  *ビスマス化合物 ,  プローブ ,  蛍光標識 ,  ラクトン ,  芳香族縮合化合物 ,  紫外線照射 ,  過酸化水素 ,  金属イオン ,  銅化合物 ,  鉄化合物
準シソーラス用語： バナジン酸ビスマス ,  蛍光プローブ ,  第二鉄イオン

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  触媒反応一般  (CB06080F)

物質索引 (2件)： クマリン ,  クマリン-3-カルボン酸

タイトルに関連する用語 (5件)： 光触媒 ,  粉末 ,  BiVO4 ,  OHラジカル ,  酸化機構