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J-GLOBAL ID：201502218130305534   整理番号：15A0828930

Si(001)およびSi(111)表面上で成長させた超薄酸化物の熱分解に関する酸化誘起歪の効果

Effect of Oxidation-Induced Strain on Thermal Decomposition of Ultrathin Oxide Grown on Si(111) and Si(111) Surfaces

著者 (7件)： TANG Jiayi (Tohoku Univ., JPN) ,  OGAWA Shuichi (Tohoku Univ., JPN) ,  YOSHIGOE Akitaka (JAEA, JPN) ,  NISHIMOTO Kiwamu (Tohoku Univ., JPN) ,  ISHIDZUKA Shinji (Akita Nat. Col. Technol., JPN) ,  TERAOKA Yuden (JAEA, JPN) ,  TAKAKUWA Yuji (Tohoku Univ., JPN)
資料名： Program/Abstracts of ISSS (CD-ROM)  (Program/Abstracts of ISSS (CD-ROM))
巻： 7th  ページ： ROMBUNNO.6PN-72  発行年： 2014年 
JST資料番号： L8395B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *熱分解 ,  *超薄膜 ,  *二酸化ケイ素 ,  基板 ,  ケイ素 ,  結晶方位 ,  格子歪 ,  *X線光電子スペクトル ,  曲線あてはめ ,  スペクトル線形

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (7件)： Si ,  成長 ,  酸化物 ,  熱分解 ,  酸化 ,  誘起 ,  歪