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J-GLOBAL ID:201502218401528780   整理番号:15A1172213

CdTe量子ドット/p-Siヘテロ接合の電気伝導機構

Electrical conduction mechanisms of CdTe quantum dots/p-si heterojunction
著者 (4件):
資料名:
巻: 40  ページ: 337-343  発行年: 2015年12月 
JST資料番号: W1055A  ISSN: 1369-8001  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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熱蒸着技術を用いて,CdTe量子ドット(QD)をp-Si基板上に調製する。Au/CdTe QD/p-Si/Alヘテロ接合の電流-電圧(I-V)特性を304-368Kの温度範囲で測定する。その結果,デバイスは,整流比が±1.5Vで275の整流挙動を持つことが分かる。ヘテロ接合の電気伝導機構を決定する。順方向電圧が<0.3Vでは,熱電子放出が,主要な機構となり,この電圧範囲では,障壁高さ及び理想係数を推定できる。順方向電圧が0.5V<V<0.9Vの範囲では,伝導機構は,指数トラップ分布によって支配される空間電荷制限伝導(SCLC)になる。電圧が0.5V<V<0.9Vの範囲では,トラップ状態密度の合計を計算する。順方向電圧が0.95V<V<1.5Vでは,Poole-Frenkel伝導機構が,実験データとよく適合する。ゼロ場で0.16と0.46eVの活性化エネルギーを持つ2つのトラップ準位が存在することが分かる。逆方向電圧では,逆電流の主な源は,薄膜自体の界面を介してというよりはp-Siを通した生成再結合であることが分かる。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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